Er添加ファイバの長期γ線照射試験
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Er添加ファイバ(EDF)は、海底中継システムなど種々の環境下で使用されつつあり、耐放射線特性等の長期信頼性の確認が急がれている。しかしながら、従来報告されているEDFの耐放射線試験では、極めて高線量率のγ線を用いた数時間程度の照射しか行われれておらず、実使用環境における長期的な特性劣化の正確な予測は困難であった。今回我々は、1R/hという従来の報告よりも1桁以上低い線量率で半年間に渡ってγ線照射実験を行い、海底で想定されている環境においては、損失増・利得劣化とも実用上問題ないことを確認した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1994-09-26
著者
-
大西 正志
住友電気工業(株)
-
福田 智恵
住友電気工業株式会社伝送デバイス研究所
-
金森 弘雄
住友電気工業株式会社
-
千種 佳樹
住友電気工業(株)横浜研究所
-
岡本 信一
日立製作所 放送・通信システム推進事業部
-
柏田 智徳
住友電気工業株式会社
-
岡本 信一
大阪府立大学先端科学研究所
-
福田 智恵
住友電気工業株式会社横浜研究所
-
金森 弘雄
大阪府立大学放射線科学研究センター
-
千種 佳樹
住友電気工業 光通信研
-
千種 佳樹
住友電気工業株式会社
-
金森 弘雄
住友電気工業
-
大西 正志
住友電気工業
関連論文
- Al共添加EDF中のEr周辺の局所構造解析(高機能光ファイバ及び一般)
- C-3-31 Al共添加EDF中のEr局所構造解析(光増幅器,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- B-10-65 アクセスネットワークにおけるOHフリー純シリカコアファイバの伝送特性(B-10. 光通信システムB(光通信), 通信2)
- AlGaInAsレーザのESD耐性(光部品の実装・信頼性,一般)
- GaInAsPレーザの端面活性層での光吸収による劣化機構とその抑制策
- GaInAsP/InPレーザの劣化解析技術(光部品の実装・信頼性,一般)
- GaInAsP LDのESD劣化機構解析と劣化抑制技術開発
- グレーティングを用いた広帯域波長可変光源
- C-3-14 低損失・高分散を有する空孔付加型ファイバ
- 12.光ファイバの研究開発を通じての雑感(研究者・技術者の倫理観・人生観)
- TB-2-2 光ファイバの非線形光学特性
- 温度補償実装ファイバグレーティングの長期信頼性
- ファイバグレーティングのべき型熱劣化特性および長期劣化予測
- BCS-1-7 光ファイバの非線形性に関する最近の技術動向(BCS-1.光通信におけるハイパワー化への期待と課題,シンポジウム)
- BCS-1-7 光ファイバの非線形性に関する最近の技術動向(BCS-1.光通信におけるハイパワー化への期待と課題,シンポジウム)
- C-3-57 誘導ブリルアン散乱抑圧型Al_2O_3-SiO_2コア分散シフト高非線形ファイバ(光ファイバ,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- 誘導ブリルアン散乱抑圧型Al_2O_3-SiO_2コア高非線形分散シフトファイバ((フォトニック)IPネットワーク技術,(光)ノード技術,WDM技術,一般)
- C-3-25 高非線形ファイバを用いた波長選択的・可変的な波長変換(光信号処理・波長変換,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- フッ素添加クラッド型分散補償ファイバの分散補償効率と挿入損失の改善(高機能光ファイバ及び一般)
- C-3-28 γ=30/W/kmの高非線形ファイバによる高効率波長変換(光信号処理・波長変換,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-3-26 四次分散値を低減した高非線形ファイバによる広帯域波長変換(光信号処理・波長変換,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-3-10 フッ素添加クラッドによるスロープ補償型DCFの分散補償性能とFOMの改善(補償デバイス,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- シリカベース高非線形光ファイバとその応用技術
- シリカベース高非線形光ファイバとその応用技術(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
- シリカベース高非線形光ファイバとその応用技術(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
- シリカベース高非線形光ファイバとその応用技術(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
- シリカベース高非線形光ファイバとその応用技術(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
- C-3-39 零分散波長の長手方向変動を抑制したHNL-DSF(C-3. 光エレクトロニクス(光ファイバ), エレクトロニクス1)
- C-3-38 高非線形分散フラットファイバの広帯域化の検討(C-3. 光エレクトロニクス(光ファイバ), エレクトロニクス1)
- C-3-9 シリカベースビスマス添加ファイバの1.1μm帯蛍光特性(C-3. 光エレクトロニクス(光ファイバアンプ), エレクトロニクス1)
- B-10-46 低分散スロープ型NZDSFの40Gbit/s伝送への拡張性の実証(B-10.光通信システムB(光通信), 通信2)
- B-10-51 広帯域一括分散補償ファイバを用いたラマン増幅器
- B-10-43 集中ラマン増幅用高非線形性ファイバのパッケージ化検討
- C-3-28 石英系P/Al共添加EDFによる拡張Lバンド光増幅
- 高非線型ファイバ用いた集中定数型Raman増幅器の伝送特性の評価
- 高非線形ファイバ用いた集中定数型Raman増幅器の伝送特性の評価
- 高非線形ファイバ用いた集中定数型Raman増幅器の伝送特性の評価
- B-10-65 集中定数型Ramn増幅器中の光カー効果による信号劣化に関する検討
- GaInAsP/InPレーザの劣化解析技術(光部品の実装・信頼性,一般)
- GaInAsP/InPレーザの劣化解析技術(光部品の実装・信頼性,一般)
- B-10-114 低損失高非線形性ファイバを用いた広帯域1.65μm帯ラマン増幅器
- 25-100℃、無温調GaInNAs系EA/DFBレーザ(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 25-100℃、無温調GaInNAs系EA/DFBレーザ(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 25-100℃、無温調GaInNAs系EA/DFBレーザ(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 25-100℃、無温調GaInNAs系EA/DFBレーザ(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- C-4-14 GaInNAs系EA-DFBレーザの25-100℃無温調動作(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般講演)
- ファイバブラッググレーティング反射波長の熱緩和特性
- 端面コーティング改善によるAlGaInAsレーザの高信頼性化(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般(ECOC報告))
- 端面コーティング改善によるAlGaInAsレーザの高信頼性化(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般(ECOC報告))
- 端面コーティング改善によるAlGaInAsレーザの高信頼性化(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般(ECOC報告))
- OFC/NFOEC2006速報 : 光ファイバ関連(大容量伝送技術,超高速伝送技術,ラマン増幅技術,一般,OFC/NFOEC報告)
- GaAs回折格子を有するGaInNAs系DFBレーザ(半導体レーザ関連技術,及び一般)
- 端面発光型AlGaInAsレーザの端面応力が信頼性に及ぼす影響(半導体レーザ関連技術,及び一般)
- C-3-103 140nmの帯域を有する分散補償ファイバの開発
- 超広帯域ノンゼロ分散シフトファイバと分散補償ファイバモジュールによる分散フラット伝送路に関する検討
- C-3-43 Pure Guide^P-65及びDCFモジュールで構成した分散フラット伝送路
- 1580nm帯で高単位長利得を持つEDFの検討
- 純石英コアファイバと分散補償ファイバを用いた超低分散光ファイバ伝送路
- 高非線形性分散シフトファイバと波長変換への応用
- Er添加ファイバの長期γ線照射試験
- 低分散スロープリングコア型分散シフトファイバ
- AlGaInAsレーザのESD耐性(光部品の実装・信頼性,一般)
- AlGaInAsレーザのESD耐性(光部品の実装・信頼性,一般)
- 高性能ファイバ型分散補償器
- 高性能完全スロープ補償型分散補償ファイバ
- 分散補償ファイバの構造最適化に関する検討
- 水素雰囲気下におけるEr添加ファイバの長期信頼性
- 分散補償ファイバ高性能化に関する検討
- 低損失分散補償ファイバ
- メトロネットワークに適した負分散フラットファイバの提案
- メトロネットワークに適した負分散フラットファイバの提案(次世代伝送用光ファイバ,機能性光ファイバ,フォトニック結晶ファイバ,ファイバ非線形現象,一般)
- メトロネットワークに適した負分散フラットファイバの提案(次世代伝送用光ファイバ,機能性光ファイバ,フォトニック結晶ファイバ,ファイバ非線形現象,一般)
- B-10-119 メトロネットワーク向け負分散フラットファイバ(B-10. 光通信システムB(光通信))
- C-3-59 高非線形分散フラットファイバ及び可変波長変換への応用に関する検討
- 高非線形分散フラットファイバとその応用(次世代光ファイバ,機能性光ファイバ,フォトニック結晶ファイバ,光計測,光伝搬,光信号処理,一般)
- 高非線形分散フラットファイバとその応用(次世代光ファイバ,機能性光ファイバ,フォトニック結晶ファイバ,光計測,光伝搬,光信号処理,一般)
- 機能性光ファイバーの開発状况
- 低分散スロープ、低非線形性を有する低非線形PSCF+DCF複合伝送路
- 低分散スロープ、低非線形性を有する低非線形PSCF+DCF複合伝送路
- 低分散スロープ、低非線形性を有する低非線形PSCF+DCF複合伝送路
- C-3-76 低非線形、低損失純石英コアファイバの開発
- 2重クラッド型分散補償ファイバの試作
- 実効断面積を拡大した分散フラットファイバ
- ハイブリッド構成を用いた光アナログ伝送用低歪み・高出力Er添加光ファイバ増幅器
- 偏波保持型高非線形性分散シフトファイバ
- 波長多重伝送用ハイブリッドEr添加光ファイバ増幅器
- ハイブリッド型Er^添加光ファイバ増幅器を用いた波長多重伝送特性の検討
- WDM光伝送用ハイブリッド型EDFAの開発
- ハイブリッドEDFAを用いたWDM伝送特性の検討
- ハイブリッドEDFAを用いた2.5Gbps×4波長多重SMF509km伝送特性
- ハイブリッドEDFを用いたWDM伝送システム用光ファイバ増幅器の検討
- 直接変調光送信器と分散補償ファイバを用いた2.4Gb/s長距離無中継伝送の検討
- 高利得・高出力EDFAプリアンプと分散補償ファイバを用いた2.4Gbps・210km非分散シフトファイバ無中継伝送
- 分散補償ファイバ中の非線形現象抑制に関する検討
- EDF増幅特性のAl添加濃度依存性
- 高非線形性分散シフトファイバとその波長変換への応用
- C-4-19 部分ドープ多重量子井戸によるInP系マッハツェンダ変調器の低駆動電圧化(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-55 3x1 MMIカプラを用いたDP-QPSK変調器の提案(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-4-27 InP系変調素子とドライバICを内蔵した小型DP-QPSK変調器モジュールの低消費電力駆動(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス)
- B-10-85 128Gbit/s-DP-QPSK小型変調器モジュール用ドライバICの開発(B-10.光通信システムB(光通信方式,光通信機器,デバイスのシステム応用,光通信網・規格))