シリカベース高非線形光ファイバとその応用技術(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
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概要
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光信号処理デバイスへの適用が期待されるシリカベース高非線形ファイバの分散、非線形特性の改善及びその応用を報告する。四光波混合による波長変換においては波長変換帯域、変換効率の改善をそれぞれ検討した。変換帯域の拡大に関し、四次分散値を従来よりも1桁の低減に成功、波長変換帯域222nmを実現した。変換効率の増大に関しては、コア部へのGeO_2添加濃度をΔn=3.5%相当に増加、非線形係数γを30/W/kmとし、効率をγ=20/W/kmの際の2倍に改善した。加えて、スーパーコンティニューム(SC)光の発生や、三次、四次分散を同時に低減したSC光発生に適する光ファイバの数値検討結果についても述べる。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-01-25
著者
-
平野 正晃
住友電気工業株式会社光通信研究所
-
大西 正志
住友電気工業(株)
-
大西 正志
住友電気工業株式会社
-
大西 正志
住友電気工業株式会社光通信研究所
-
奥野 俊明
住友電気工業株式会社
-
中西 哲也
住友電気工業株式会社
-
平野 正晃
住友電気工業株式会社
-
平野 正晃
住友電気工業(株)光通信研究所
-
奥野 俊明
住友電気工業(株)光通信研究所
-
中西 哲也
住友電気工業
-
大西 正志
住友電気工業
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