異常分散による色素薄膜の屈折率制御(分子薄膜デバイス・一般)
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概要
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色素薄膜の線形光学は、複素屈折率n(λ)+ik(λ)によって定量的に表現され、吸収帯の波長付近では実姉の屈折率n(λ)が異常分散を示す。しかし、色素膜の光学的関心は主に吸収スペクトルの構造にあり、その光学的性質は虚部の消衰係数k(λ)だけで論じられることが多い。色素膜による吸収の他に反射や屈折を制御するには、その複素屈折率特性を利用する必要がある。ここでは、複素屈折率を用いて色素膜による反射と吸収という光学応答について考察する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2004-10-22
著者
-
若松 孝
茨城工業高等専門学校
-
斉藤 和裕
産業技術総合研究所
-
豊島 晋
福島工業高等専門学校 電気工学科
-
豊島 晋
新潟大学大学院自然科学研究科
-
豊島 晋
福島工業高等専門学校
-
斉藤 和裕
電子技術総合研究所超分子部
-
Toyoshima Susumu
Graduate School Of Pure And Applied Sciences Tsukuba University
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