放射顕微鏡によるFEA放射電流変動の検討
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概要
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本稿ではFEAの応用に際して重要な要素は放射電流の安定性と各マイクロチップの放射電流の均一性であるが、FEAは多数の陰極の集合体であるため平均化効果を受けた電流安定性となり、個々の陰極の放射電流安定性や放射電流均一性の評価は困難である。我々はかねてよりFEAの放射電流の安定性と各マイクロチップの放射電流の均一性を放射顕微鏡を用いて検討してきた。今回はFEAの放射電流の安定性と各マイクロチップの放射電流の均一性の検討を行った。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-12-08
著者
-
安達 洋
室蘭工業大学
-
安達 洋
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
-
安達 洋
室蘭工大
-
中根 英章
室蘭工業大学電気電子工学科
-
山根 康一
室蘭工業大学 電気電子工学科
-
武藤 康史
室蘭工業大学電気電子工学科
-
中根 英章
室蘭工業大学
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