SIMD型並列プロセッサを用いた高速EBデータ照査システム
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概要
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LSIのフォトマスク作成用の電子ビーム描画データ (EBデータ : Electron Beam Exposure Data)は, 設計者がCADによって作成したレイアウトデータを変換して生成する. この変換工程の中で誤りが混じる可能性があり, マスクの信頼性確保のために照査が必要である. LSIの高集積化に伴い照査時間が増大し, 次世代LSIのマスクの照査には膨大な時間がかかることが予想される. このような状況に対応して, 我々はSIMD型並列プロセッサを用いて高速でローコストな照査システムの開発を行なっている. 今回, プロトタイプシステムとして並列プロセッサ搭載ボード1枚と汎用EWSを協調動作させ、EWSのみを用いた場合の100倍の性能をもつシステムを開発したので報告する. 本システムでは全体の処理を, 並列処理によって高速化が可能な部分と, 分岐等を多く含む処理とを分離し, 前者をSIMD型並列プロセッサシステムで, 後者をEWSで処理させた. これによって高速化を達成できた.
- 一般社団法人情報処理学会の論文
- 1997-03-12
著者
-
田中 健一
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
-
田中 健一
三菱電機先端技術総合研究所
-
久間 和生
三菱電機先端技術総合研究所
-
久間 和生
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
-
久間 和生
三菱電機株式会社 先端技術総合研究所
-
久間 和生
三菱電機株式会社 システムlsi事業統括部
-
田村 俊之
三菱電機先端技術総合研究所
-
東 貴裕
三菱電機先端技術総合研究所 ニューロ応用技術部
-
Crochat Jerome
三菱電機先端技術総合研究所 ニューロ応用技術部
-
Hu John
三菱電機先端技術総合研究所 ニューロ応用技術部
-
田村 俊之
三菱電機(株)先端技術総合研究所
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