強磁場中におけるZnOのMOCVD成長(II)(半導体薄膜・表面)
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概要
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Metalorganic chemical vapor deposition of zinc oxide film was performed in a high magnetic field with diethyl zinc and water vapor as starting materials. Magnetic field may become a new control mean for the growth rate, surface morphlogy and crystalline structure.
- 日本結晶成長学会の論文
- 2003-07-05
著者
-
矢野 浩司
山梨大学・院・医工
-
春日 正伸
山梨大学・院・医工
-
高野 鉄平
山梨大大学院
-
春日 正伸
山梨大大学院
-
廣嶋 綱紀
山梨大大学院
-
高野 鉄平
山梨大・工
-
五十嵐 義也
山梨大・工
-
春日 正伸
山梨大・工
-
廣嶋 綱紀
山梨大・工
-
矢野 浩司
山梨大・工
-
岸尾 光二
東大大学院・工
-
春日 正伸
山梨大学工学部
-
廣嶋 綱紀
山梨大学工学部
-
岸尾 光二
東大大学院
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