廣嶋 綱紀 | 山梨大大学院

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概要

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  山梨大学・院・医工

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  山梨大学工学部電気電子システム工学科

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• 小川 直久

  北海道工大

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• 近藤 進

  東芝・ディスプレイデバイス技術研究所

• 山田 紀和

  山梨大学工学部電子情報工学科

• 松本 俊

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• 加藤 孝正

  山梨大学大学院医学工学総合研究部

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  山梨大・工

• 山口 正仁

  山梨大学工学部電気電子システム工学科

• 矢野 浩司

  国立大学法人山梨大学 大学院医学工学総合研究部

• 松本 俊

  山梨大学工学部

• 加藤 孝正

  山梨大学工学部電気電子システム工学科

• 山田 紀和

  山梨大・工

• 楊 映保

  ソニー(株)中央研究所

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• 栗原 章浩

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  北海道工業大学

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著作論文

• 17pB14 強磁場中におけるZnOのMOCVD成長(IV)(半導体エピ(4),第35回結晶成長国内会議)
• 25pB02 強磁場中におけるZnOのMOCVD成長(III)(半導体エピ(2),第34回結晶成長国内会議)
• 強磁場中におけるZnOのMOCVD成長(II)(半導体薄膜・表面)
• 強磁場中におけるZnO膜のMOCVD成長 : エピキタシャル成長IV
• 270ﾟツイストセルの分子配列モデル
• 3)非対称プレティルトをもつN^*液晶セルの電気光学特性(情報ディスプレイ研究会)
• 電気電子システム工学科における半導体製作実験 -デバイス設計、製作、評価の一貫教育-
• 3D06 磁界印加表面吸着法における界面配向に及ぼすポリマー鎖の効果 (II)
• 3B08 高分子微細片分散系液晶の光散乱特性
• PC01 陽極酸化ポーラスアルミナ膜の液晶分子配向特性 (III)(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
• 3A08 高分子膜の液晶分子配向特性に及ぼす表面改質の効果 (III)(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
• 3A07 陽極酸化ポーラスアルミナ膜の液晶分子配向特性 (II)(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
• 1A12 ネマティック液晶マイクロカプセルの形成と光学素子への応用の検討(トピカルセッション-エレクトリックペーパーに向けての関連技術-, 2005年日本液晶学会討論会)
• PA06 高分子膜の液晶分子配向特性に及ぼす表面改質の効果(2004年日本液晶学会討論会)
• 強磁場による水溶媒ディスコチック色素分子分散系 : (Discotic Dye Dispersion System, DDDS)吸収異方性薄膜の形成
• 3A04 微粒子混入系液晶セルの光散乱特性
• 2C13 TN型セルの応答特性に対するピッチとセルギャップの寄与
• 1C10 shearingによる液晶分子配向処理 (II)
• 2PB02 shearingによる液晶分子配向におけるプレティルト発現
• 1A17 溶媒蒸発型磁界印加表面吸着法による液晶分子配向特性
• 1A08 高分子膜の表面形状と液晶分子配向特性 (II)
• 3G617 磁界印加表面吸着法による液晶分子配向特性 (IV)
• 3G608 高分子膜の表面形状と液晶分子配向特性
• 1D01 磁界印加表面吸着法による液晶分子配向特性 (II)
• 3F102 表面吸着による液晶分子配向(IV)
• 1L302 表面吸着による液晶分子配向(II)
• 3A03 交叉型強誘電性液晶セルの配向特性
• 1N29 SiO回転斜方蒸着膜におけるティルト角の温度依存性
• 2A11 磁場による機能性高分子薄膜の形成
• PC02 磁場により形成された配向性色素分子膜上の液晶分子配向(ディスプレイ)
• 強磁場中の導体の落下運動に関する考察
• 6)TN-LCDの視野角特性に及ぼす配向処理の効果(情報ディスプレイ研究会)
• 2B19 有機ラビング膜の液晶分子配向特性
• 5)SiO回転斜方蒸着膜の強誘電性液晶分子配向特性(画像表示研究会)
• SiO回転斜方蒸着膜の強誘電性液晶分子配向特性
• 1D319 有機蒸着膜による液晶分子配向 (II)
• 1連F12 SiO回転斜方蒸着膜の強誘電性液晶分子配向特性
• 1N30 無機物の斜方蒸着膜の表面構造と液晶分子配向
• 13A01 SiO回転斜方蒸着膜上の液晶配向特異点
• 2F23 SiO蒸着法における低ティルト角液晶配向(II)
• 2F22 液晶配向用SiO斜方蒸着膜のSEM観察および計算機シミュレーション(II)
• 4V13 SiO回転蒸着膜による液晶分子配向(第三報)
• 4V12 液晶配向組織に及ぼす界面tiltの効果
• 4U17 SiO回転蒸着膜による液晶分子配向
• 1R15 SiO斜方蒸着膜によるhomeotropic配向処理(II)

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