春日 正伸 | 山梨大・工
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概要
関連著者
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春日 正伸
山梨大・工
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春日 正伸
山梨大大学院
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春日 正伸
山梨大学工学部
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矢野 浩司
山梨大学・院・医工
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春日 正伸
山梨大学・院・医工
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廣嶋 綱紀
山梨大大学院
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廣嶋 綱紀
山梨大・工
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矢野 浩司
山梨大・工
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廣嶋 綱紀
山梨大学工学部
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吉岡 泰志
山梨大・工
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原田 昌幸
山梨大・工
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岸尾 光二
東大大学院・工
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清水 東
山梨大学
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清水 東
山梨大・工・電気電子
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清水 和博
山梨大・工・電気電子
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岸尾 光二
東大大学院
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清水 東
山梨大学工学部
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保坂 智也
山梨大・工
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岸尾 光二
東大・院・工
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清水 和博
山梨大・工
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遠藤 乾一
山梨大・工
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井内 真
山梨大学工学部電子工学科
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加納 徹
山梨大・工
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井内 真
山梨大・工
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福田 承生
東北大・金研
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干川 圭吾
信州大学
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高野 鉄平
山梨大大学院
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高野 鉄平
山梨大・工
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五十嵐 義也
山梨大・工
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家田 友則
山梨大・工
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村上 泰樹
山梨大・工
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峰岸 一典
山梨大・工・電気電子
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吉田 崇宏
山梨大・工
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岡野 泰則
東北大・金研
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児玉 大介
山梨大・工
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干川 圭吾
東北大・金研
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高垣 勝彦
山梨大・工
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増田 和規
山梨大・工
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峰岸 一典
山梨大学大学院医学工学総合研究部
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五十嵐 克彦
山梨大・工
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萩原 秀幸
山梨大・工
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Okano Y
Shizuoka Univ. Hamamatsu Jpn
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李 林
山梨大・工
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雲山 賢一
山梨大・工
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天野 正弥
山梨大・工
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木原 泰三
山梨大学工学部
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木原 泰三
山梨大・工
著作論文
- 強磁場中におけるZnOのMOCVD成長(II)(半導体薄膜・表面)
- 強磁場中におけるZnO膜のMOCVD成長 : エピキタシャル成長IV
- p-ZnO単結晶膜の気相成長(III) : 気相成長I
- CdTe/SapphireのHot Wall Epitaxyにおける熱処理効果 : 気相成長I
- 2A11 磁場による機能性高分子薄膜の形成
- PC02 磁場により形成された配向性色素分子膜上の液晶分子配向(ディスプレイ)
- CdTeホモエピタキシーにおける特異面 : エピタキシャル成長IV
- ZnO/サファイアの光MOCVD(II) : 薄膜成長I
- 27pC10 CdTe/サファイアのホットウォールエピタキシーにおける格子歪み(気相成長IV)
- ZnO/Sapphire気相エピキタシーの成長速度
- Zn_3P_2の単結晶の育成 : Necked Ampoule法 : モルフォロジーII
- Zn_3P_2の合成と気相ブリッジマン法による結晶成長
- 磁場中で運動する導体の電流分布測定II : 融液成長II
- 28a-ZG-3 CdTe気相エピタキシーにおける単結晶と双晶の生成条件
- 27p-ZG-1 結晶成長における集団的ふるまい
- 減圧昇華法によるCdTeのエピタキシャル成長 : 気相成長
- ZnO/α-Al_2O_3 CVD成長の異方性
- ZnOの成長速度と基板面方位の関係 : 気相成長
- CdTe/Sapphireの気相エピタキシャル成長(II)