電界イオン顕微鏡による金属蒸着膜の研究 : 薄膜
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
-
酸素プラズマアッシングによるデバイス汚染
-
電界イオン顕微鏡の分解能の研究 : [I]温度依存性 : 表面物理, 薄膜
-
アルゴンプラズマエッチングを用いたフィールドエミッターの試作
-
4a-RJ-9 Si(111)5×1-Au相の角度分解電子エネルギー損失分光
-
30a-D-10 Ge_xSi_(111)高温相の(√×√)的散漫散乱構造
-
1a-S-11 Si(111)表面の低温及び高温におけるステップ構造
-
1a-S-9 Si(111)高温相の√×√散漫散乱
-
27a-Y-13 Si(111)7×7清浄表面及びAg吸着面における表面プラズモンの分散
-
27a-Y-3 Si(111)7×7及び1×1清浄面の角度分解EELS
-
走査トンネル(効果)顕微鏡による表面原子構造の実空間観察--Si(111)7×7超構造表面(トピックス)
-
30p-M-11 I-V曲線に現われたSi(001)表面の非弾性低速電子回折の異常
-
31a-L-6 Si(001)面の表面遷移ELSの角度分布
-
2a-NM-9 Si(001)面の表面プラズモンの分散
-
2p-Q-14 LaB_6表面局在電子状態のUPS
-
シリコン表面のESRによる研究 : 半導体 (表面)
-
薄膜MOSFET界面の損傷欠陥とオーミック特性
-
電界イオン顕微鏡による金属蒸着膜の研究 : 薄膜
-
マグネトロンイオンエッチングによってSi表面上に形成された汚染膜のX線光電子分光法による観察
-
Ti/SiO2/TiSi2/Si系におけるTiとSiO2薄膜界面の高温反応-XPSによる研究-
-
Si表面におけるTiSi2の膜の成長と酸化
-
W表面へ複合吸着したHg, NaIおよびI2の電界電子顕微鏡による研究
-
金属表面に吸収された酸素の効果
-
耐熱金属への酸素をセシウムの吸着 : 表面物理, 薄膜
-
タングステンの清浄表面と電界蒸発機構
-
電界電子顕微鏡 (F・E・M) によるW, Re上の酸素, セシウム複合吸着の研究
-
13a-DF-14 半導体デバイスの表面を加工処理したときに生じる機械的損傷, 欠陥と電子特性の評価と対策
-
26p-P-6 Si(111)√-A1相の原子状水素曝露による表面構造変化
-
26p-P-5 Si(111)√-A1相の角度分解電子エネルギー損失スペクトル
-
1p-KM-6 角度分解エネルギー損失分光:Ag,Au/Si(111)
-
原子プローブ電界イオン顕微鏡と鉄鋼および鉄合金の極微小領域の分析
-
Si (001) 面からの低速電子線非弾性回折 (ILEED)
-
酸素プラズマアッシングによるデバイス汚染
-
29p-D-3 Si(111) 表面及びGe薄膜 (111) 表面の相転移
-
アトム・プロ-ブ・フィ-ルドイオン顕微鏡の定量性の確立と金属学への応用
-
角度分解電子エネルギー損失分光法によるSi表面の研究(表面に特有な超格子構造の解析とその新しい方法の開発,科研費研究会報告)
-
固体表面の電子現象 (表面・界面特集)
-
固体表面の組成・状態分析について
-
LaB6表面構造の電界イオン顕微鏡像 (セラミックスの微構造と物性)
-
電界イオン顕微鏡--最近の発展と将来
-
3p-U-6 FIMによる表面構造の解析
-
結晶表面の複合解体と評価
-
真空漏れさがし : 私はこうしている [IV] (実験メモ)
-
J.J. Hren and S.Ranganathan 編: Field-Ion Microscopy, Plenum Press, 1968, 244頁, 16×23.5cm, 6,000円.
-
表面移動および核生成(FEM, FIM) : 薄膜・表面物理・真空・合同シンポジウム : 固体表面現象の問題点I : 吸着と蒸着
-
1p-BG-4 SiC-金属界面の研究-パルスレーザー・アトムプローブ法による-(1p BG 表面・界面)
-
2p-A1-3 Si(111)5×5-GeのAR-EELS(2p A1 表面・界面,量子エレクトロニクス)
もっと見る
閉じる
スポンサーリンク