黒田 司 | 大阪大学 産業科学研究所
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概要
関連著者
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黒田 司
大阪大学 産業科学研究所
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黒田 司
大阪大学産業科学研究所
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中村 勝吾
大阪大学産業科学研究所
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美馬 宏司
大阪市立大学
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楊 偉毅
School Of Electronic Engineering & Optoelectronic Technology Nanjing University Of Science &
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黒田 司
阪大産研
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中村 勝吾
阪大・産研
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中村 勝吾
阪大産研
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平井 実
新電元工業(株)研究開発センター
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楊 偉毅
中国南京華東工学院
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中村 勝吾
阪大 産研
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月出 修
大阪電気通信大学
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井上 徹
大阪電気通信大学 工学部
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月出 修
大阪電気通信大学 工学部
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八木 秀一
阪大産研
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坂田 東洋
阪大産研
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岩黒 弘明
新電元工業(株)研究開発センター
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鷲見 弘
新日本電気株式会社開発研究所
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玉置 省三
大阪大学産業科学研究所
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岩黒 弘明
大阪大学産業科学研究所
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平井 実
新電元工業 (株) 研究開発センター
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井上 徹
大阪電気通信大学
著作論文
- 酸素プラズマアッシングによるデバイス汚染
- アルゴンプラズマエッチングを用いたフィールドエミッターの試作
- 電界イオン顕微鏡による金属蒸着膜の研究 : 薄膜
- マグネトロンイオンエッチングによってSi表面上に形成された汚染膜のX線光電子分光法による観察
- Ti/SiO2/TiSi2/Si系におけるTiとSiO2薄膜界面の高温反応-XPSによる研究-
- Si表面におけるTiSi2の膜の成長と酸化
- W表面へ複合吸着したHg, NaIおよびI2の電界電子顕微鏡による研究
- 金属表面に吸収された酸素の効果
- 耐熱金属への酸素をセシウムの吸着 : 表面物理, 薄膜
- タングステンの清浄表面と電界蒸発機構
- 電界電子顕微鏡 (F・E・M) によるW, Re上の酸素, セシウム複合吸着の研究
- 酸素プラズマアッシングによるデバイス汚染