19pPSB-19 第一原理計算によるシリコン<001>{130}傾角粒界の界面電子状態の再考

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2001-09-03

著者

• 内田 和之

  東京大学大学院工学系研究科物理工学専攻

• 常行 真司

  東京大学物性研究所

• 内田 和之

  東京大学物性研究所

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