フェムト秒レーザによる微細周期構造の形成
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Precise periodic structures have been generated on the surface of Si, Cu and acrylic resin by femtosecond laser (τ=120fs, λ=800nm, F=1kHz) of energies nearby ablation threshold. The direction of the periodic structures on the ablated surface of Si and Cu is perpendicular to the polarization of the incident beam. On acrylic resin surface, however, the direction of those has nothing to do with the polarization. It is possible to produce the periodic structures continuously in wide area by overlapped laser scanning with a cylindrical lens. The periodic structures have a function of spectroscope, and hence are composed of the ripples with constant space. The ripple spacings on Si an Cu surface depend on laser incident angle and almost correspond with irradiated laser wavelength at normal incidence, but on the other hand the ripple spacings on acrylic resin are always 20μm at various incident angles.
- 社団法人精密工学会の論文
- 2003-04-05
著者
-
黒澤 宏
宮崎大学
-
黒澤 宏
宮崎大学工学部電気電子工学科
-
沢田 博司
キヤノンマシナリー(株)研究開発センター
-
二宮 孝文
キヤノンマシナリー(株)研究開発センター
-
川原 公介
キヤノンマシナリー(株)研究開発センター
-
二宮 孝文
Necマシナリー
-
沢田 博司
NECマシナリー(株)研究開発センター
-
川原 公介
NECマシナリー(株)研究開発センター
-
二宮 孝文
NEDマシナリー(株)
-
横谷 敦至
宮崎大学工学部
-
黒澤 宏
宮崎大学工学部
-
沢田 博司
Necマシナリー
-
川原 公介
Necマシナリー
関連論文
- 結晶Si_3N_4のArFエキシマレーザー照射効果
- 7)イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用(情報入力研究会情報ディスプレイ研究会)
- イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用 : 画像変換技術関連 : 情報入力 : 情報ディスプレイ
- イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用
- 1)真空紫外波長域における画像記録材料としてのイメージングプレート
- 真空紫外波長域における画像記録材料としてのイメージングプレート : 情報入力,情報ディスプレイ
- 平行すべり面の潤滑特性に及ぼす表面周期構造の影響
- フェムト秒レーザによる表面微細加工
- 真空紫外光によるSiウェハーの室温プロセス
- 電子ビーム励起ArKrヘテロエキシマレーザーの研究
- 流体潤滑にあるしゅう動表面のぬれ性による摩擦への影響
- スラスト玉軸受の転がり摩擦係数に及ぼす表面周期構造の影響
- レーザ誘起表面周期構造によるDLC膜の密着性向上
- フェムト秒ダブルパルスレーザ照射による表面周期構造の形成
- フェムト秒レーザを用いた薄厚シリコンウエハのダイシング加工 : レーザパルス幅が抗折強度と切断品質に及ぼす影響
- フェムト秒レーザーを用いた半導体関連材料の加工と特性の評価
- フェムト秒レーザによる微細周期構造のしゅう動特性に及ぼす影響
- 時間波形制御したフェムト秒レーザによる極薄半導体基板のダイシング技術の開発
- レーザー誘起表面周期構造のしゅう動特性
- フェムト秒レーザによる微細周期構造の形成
- フェムト秒レーザを用いた極薄半導体基板の加工技術の開発
- フェムト秒レーザアブレーションにおけるレーザ発振条件の加工特性に及ぼす影響
- フェムト秒レーザーを用いた自己組織的表面構造の形成
- ダブルパルスを用いたフェムト秒レーザーによるSiの加工
- フェムト秒レーザアブレーションにおけるレーザ発振条件の及ぼす影響
- フェムト秒レーザによるSiの穴あけ加工
- フェトム秒レーザーアブレーションによる薄板半導体基板の切断加工技術の開発
- PLD法によるハイドロキシアパタイト被膜の形成
- パルスレーザー堆積法による機能性材料被膜の形成 : 構造制御と基礎課程の解明に向けて
- 1107 フェムト秒レーザによるナノテクスチャ付コンタクトスライダに関する研究(要旨講演,一般セッション:情報機器コンピュータメカニクス)
- 923 フェムト秒レーザによる微細周期構造付与金属表面に成膜したDLC膜の用途に関する研究 : マイクロ多刃工具としての可能性の検討(GS-11 機械要素)
- 1208 転がり滑り接触面の耐疲労強度に及ぼす微細周期構造の影響(GS-11 摩擦)
- 高効率ガスジェット放電励起希ガスエキシマ光源
- イメージングプレートの紫外から可視領域における感度応答特性
- エキシマレーザーによる電界分極石英ガラス中のSHG相の消去プロセス
- 電界分極Ge-doped石英ガラスの2次の非線形光学性
- P-14 骨芽細胞様細胞に対するフェムト秒レーザー誘起チタン表面微細構造の影響(金属,一般講演(ポスター発表),第48回日本歯科理工学会学術講演会)
- フェムト秒レーザーによるチタン表面への周期構造の形成と細胞反応(インプラント2, 平成17年度秋期 (長崎) 第46回日本歯科理工学会学術講演会)
- フェムト秒レーザーを用いた半導体関連材料の加工と特性の評価
- フェムト秒ファイバーレーザーを用いたTHG顕微鏡の製作
- フェムト秒レーザによる微細周期構造の形成
- T1101-3-1 水中における超低摩擦発生のための表面設計(マイクロナノ理工学:nmからmmまでの表面制御とその応用(3))
- 放電励起希ガスエキシマレーザーに関する研究
- エキシマランプを用いた酸化物薄膜の作成
- 真空紫外エキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
- 誘電体バリア放電Xeエキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
- 真空紫外光エキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
- ガスジェット放電励起真空紫外キセノンエキシマ光源
- ガスジェット放電励起キセノンエキシマ光源の高性能化
- ファイバグレーティングセンサ反射特性のシミュレーションによる解析
- 紫外レーザーを用いたファイバーグレーティングセンサーの作製と特性評価
- PLD法によるフッ化ランタン薄膜の作製
- フェムト秒レーザーを用いた半導体基盤の加工技術の開発
- フェムト秒レーザーを用いた各種材料の加工特性
- AgBiTe_2マトリックスにAg_2Te粒を分散させたことによる熱電特性の向上 : (AgBiTe_2)_(Ag_2Te)_xの複合化効果
- フォトントンネル顕微鏡に関する基礎研究
- レーザー用先端光学材料特集号によせて
- 走査型トンネル顕微鏡に関する研究
- レーザーを用いた食品異物検出装置の開発
- 誘電体バリア放電エキシマランプによる酸化ゲルマニウム薄膜の作製
- 半導体集積回路分野
- イメージングプレートの紫外感度特性
- 超軟X線発光分析のレーザープロセシングへの応用
- 真空紫外レーザー照射改質表面の軟X線発光分析
- 短波長レーザー照射による石英表面層内でのシリコン結晶成長 : 基礎V
- 全反射減衰法による表面プラズモンポラリトンの研究
- エキシマランプを用いたフォトエッチングの基礎特性
- 高エネルギー及び高輝度光源を用いたマテリアルプロセッシングの研究
- 熱ポーリングによる中空石英ガラス管の第2高調波の高効率発生
- 石英ガラスを用いた波長変換デバイス
- 等方性石英ガラスにおける二次非線形光学性
- FBG走査型狭帯域フィルタを使用したFBGセンサ用測定器の開発
- 物質表面における光化学反応の原子レベルでの観察と制御
- 真空紫外光を用いた半導体プロセス低温化技術
- シリコン清浄表面上におけるTEOS分子の光分解過程の観察
- 真空紫外エキシマランプ光CVDによるシリカ薄膜常圧形成技術の開発
- VUV-CVDで生成したシリカ膜の電気特性(レーザ・量子エレクトロニクス)
- 真空紫外エキシマランプによる銅薄膜の室温合成に関する研究
- エキシマレーザーを用いた透明導電性酸化物薄膜の作成
- フォトン走査型トンネル顕微鏡に関する研究
- 真空紫外エキシマランプCVDによる薄膜作成
- 真空紫外エキシマランプによる光洗浄技術の開発(II)
- 真空紫外エキシマランプによる光洗浄技術の開発(I)
- VUV-CVDを用いたSiO_2膜生成における生成レート制限因子
- 真空紫外光CVDによる酸化膜形成評価
- エキシマレーザーアブレーションによるβ-SiC薄膜の作製
- 真空紫外光CVD法による有機シロキサンを用いた酸化膜形成評価
- 真空紫外希ガスエキシマランプを利用した薄膜形成
- 飛行時間型質量分析法による表面微量分析技術の開発
- 真空紫外光CVDによる薄膜作成
- 真空紫外希ガスエキシマ光源とその物質プロセスへの応用
- 添加ガスによる真空紫外光CVD-SiO_2膜の品質向上
- Materials processing using vacuum ultraviolet rare gas excimer lamps
- 希ガスクラスタの衝突励起過程測定用電子ビーム源の開発
- PLD法による結晶性チタン酸バリウム薄膜の作製
- エキシマレーザーアブレーションによる非線形光学薄膜の作製
- フェムト秒レーザーアブレーションによるサファイア薄膜の作製
- 第13回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
- エキシマレーザーアブレーションを利用したβ-SiC薄膜の作製
- エキシマレーザーアブレーションを利用したTi:Al_2O_3薄膜の作製