パルスレーザー堆積法による機能性材料被膜の形成 : 構造制御と基礎課程の解明に向けて
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2003-11-13
著者
-
甲藤 正人
宮崎大学産学連携センター
-
瀧川 靖雄
阪電通大
-
黒澤 宏
宮崎大学
-
瀧川 靖雄
大阪電気通信大学
-
甲藤 正人
近畿大学
-
塚本 雅裕
大阪大学接合科学研究所
-
甲藤 正人
宮崎大学 産学連携センター
-
中山 斌義
近畿大学理工学部電気電子工学科
-
高橋 健治
富士写真フイルム(株)
-
甲藤 正人
宮崎大学地域共同研究センター
-
黒澤 宏
宮崎大学地域共同研究センター
-
瀧川 靖雄
大阪電気通信大学工学部電子工学科
-
甲藤 正人
近畿大学理工学部
-
瀧川 靖雄
大阪電気通信大学工学部
-
高橋 健冶
富士写真フイルム宮台開発センター
-
黒澤 宏
分子研
-
中山 斌義
近畿大学理工学部
-
高橋 健治
富士写真フィルム (株) 宮台技術開発センター
関連論文
- 高機能性光源を用いた新しい産業技術への応用
- PLD法による多結晶ハイドロキシアパタイト被膜の室温成長
- ArFエキシマレーザーによるSi_3N_4膜の表面改質
- 結晶Si_3N_4のArFエキシマレーザー照射効果
- 7)イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用(情報入力研究会情報ディスプレイ研究会)
- イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用 : 画像変換技術関連 : 情報入力 : 情報ディスプレイ
- イメージングプレートのナノ秒紫外パルス光を用いた画像記録への応用
- 1)真空紫外波長域における画像記録材料としてのイメージングプレート
- 真空紫外波長域における画像記録材料としてのイメージングプレート : 情報入力,情報ディスプレイ
- 水晶振動子型ガスセンサによるT&Tオルファクトメーター基準臭の計測
- SD法によるT&Tオルファクトメータの5基準臭の評価 : 具体的形容詞を用いた場合
- SD法によるT&Tオルファクトメータの5基準臭の評価
- 水晶振動子型ニオイ計のT&Tオルファクトメータの基準臭に対する応答
- レーザー生成プラズマ極端紫外光源を用いた光脱離質量分析装置の開発
- 真空紫外光によるSiウェハーの室温プロセス
- 電子ビーム励起ArKrヘテロエキシマレーザーの研究
- 31a-XH-10 高速点火に関する超高強度レーザープラズマ相互作用の研究 V : イメージングプレートを用いた高速電子スペクトル計測
- フェムト秒ダブルパルスレーザ照射による表面周期構造の形成
- フェムト秒レーザを用いた薄厚シリコンウエハのダイシング加工 : レーザパルス幅が抗折強度と切断品質に及ぼす影響
- フェムト秒レーザーを用いた半導体関連材料の加工と特性の評価
- フェムト秒レーザによる微細周期構造のしゅう動特性に及ぼす影響
- 時間波形制御したフェムト秒レーザによる極薄半導体基板のダイシング技術の開発
- レーザー誘起表面周期構造のしゅう動特性
- フェムト秒レーザによる微細周期構造の形成
- 双方向光入射による超高速連続撮影の提案
- LALA法におけるHAp被膜に及ぼすアシストレーザー照射タイミングの影響
- PLD法によるハイドロキシアパタイト被膜の形成
- パルスレーザー堆積法による機能性材料被膜の形成 : 構造制御と基礎課程の解明に向けて
- 29p-PS-13 スピネル相Mo-カルコゲンGa_Mo_2S_4の磁性
- 第27回レーザー・光応用に関する国際会議(ICALEO)2008会議報告
- 第26回レーザー・光応用に関する国際会議(ICALEO)2007会議報告
- 国際会議報告 第26回レーザ・光応用に関する国際会議(ICALEO)2007 会議報告
- パルスレーザー照射による透明導電膜の損傷
- 金属薄膜の表面プラズモン分光計測
- 具体的形容詞群による T&T オルファクトメータの10基凖臭の評価(第30回味と匂のシンポジウム)
- PLD法による薄膜形成の初期過程の観察
- 水中レーザーアブレーション法による生体親和性ナノ粒子の創成
- 真空紫外光による光励起表面脱離プロセスと表面分析への応用
- エアロゾルデポジッション法によるハイドロキシアパタイト皮膜形成
- 120 ビーム入射角制御によるハイドロキシアパタイトコーティング技術 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第6報)
- 406 ハイドロキシアパタイト皮膜形成のための照射条件に関する実験的検討 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第5報)
- 具体的匂い用語によるT&Tオルファクトメータ5基準臭の質の評価(1999年度日本味と匂学会第33回大会)
- 水晶振動子型ガスセンサーによる嗅覚基準物質の識別
- BAS-TRイメージングプレートの紫外光領域における感度特性
- T&Tオルファクトメータ5基準臭の評価に対する閾値の影響(1998年度日本味と匂学会第32回大会)
- 紫外線領域におけるイメージングプレートの感度応答特性
- イメージングプレートの紫外から可視領域における感度応答特性
- 具体的形容詞群によるT&Tオルファクトメータの5基準臭の評価(1997年度日本味と匂学会第31回大会)
- 光刺激に対する感覚植物の活動電位応答
- フェムト秒レーザー誘起表面周期構造の金属インプラントへの応用
- Al_2O_3セラミックスのフェムト秒レーザアブレーション
- フェムト秒レーザーを用いたTi基板の穴開け加工
- ファイバグレーティングセンサ反射特性のシミュレーションによる解析
- 紫外レーザーを用いたファイバーグレーティングセンサーの作製と特性評価
- AgBiTe_2マトリックスにAg_2Te粒を分散させたことによる熱電特性の向上 : (AgBiTe_2)_(Ag_2Te)_xの複合化効果
- 高強度レーザー励起真空紫外アルゴンエキシマレーザー
- 超短パルス真空紫外コヒーレント光発生
- 紫外・真空紫外光源の開発と光プロセスへの応用
- 高機能性光源によるマテリアルプロセッシング
- 高輝度真空紫外コヒーレント光源の開発
- 高強度真空紫外アルゴンエキシマレーザーの開発
- 高機能性光源を用いたマテリアルプロセッシングの研究
- 真空紫外光で拓く環境調和型プロセス--真空紫外光領域における光源の開発とその応用技術の開発 (特集 次世代化学技術の展望)
- 紫外光レーザーを用いた光ファイバーセンサー作製技術の開発
- レーザーを用いた食品異物検出装置の開発
- イメージングプレートの紫外感度特性
- MgIn_2O_4のArFエキシマレーザーアブレーション粒子のイオンサイクロトロン共鳴精度質量分析
- ArFエキシマレーザーによるポリイミドのアブレーション粒子の質量分析
- 超軟X線発光分析のレーザープロセシングへの応用
- 真空紫外レーザー照射改質表面の軟X線発光分析
- 3)イメージングプレートを用いた真空紫外からX線領域におけるレーザビームプロファイルの測定(〔テレビジョン電子装置研究会 画像表示研究会〕合同)
- イメージングプレートを用いた真空紫外からX線領域におけるレーザビームプロファイルの測定
- ミクロコンポジットを用いたC/Cの界面せん断強度の測定
- 真空紫外光で拓く環境調和型プロセス : 高輝度真空紫外コヒーレント光源の開発とその応用技術の開発
- 高エネルギー及び高輝度光源を用いたマテリアルプロセッシングの研究
- 接触刺激に対する感覚植物の活動電位計測
- Si_3N_4膜とセラミクスに対するエキシマレーザーとYAGレーザーの照射効果
- 短波長レーザー光による光学素子表面形状創成
- LALA法を用いたHApコーティングにおけるアシストレーザーの効果
- レーザーアブレーション法によるHApコーティング層のターゲット材料効果
- 全固体近紫外レーザーよるファイバブラッググレーティング作製技術の開発
- 極端紫外光源を用いた光脱離質量分析装置の開発
- Eutectic(α-Fe2Si5,ε-FeSi)に現れる3層構造
- フェムト秒領域のパルスレーザーによる材料加工技術の開発
- 水中レーザーアブレーション法による生体親和性ナノ粒子の創成
- PLD法による薄膜形成の初期過程の観察
- 29p-PS-12 スピネル相Mo-カルコゲンGa_Mo_2S_4のXPS
- 接触刺激に対する感覚植物の活動電位計測
- 接触刺激に対するオジギソウの活動電位の伝播
- VUV-XUV短波長レ-ザ-の開発とその応用 (レ-ザ-研シンポジウム′94--1993年4月-1994年3月)
- VUV-XUV短波長レ-ザ-の開発とその応用 (レ-ザ-研シンポジウム′93--1992年4月-1993年3月)
- チタン基板のフェムト秒レーザアブレーション加工
- 高機能性センサー素子の作製を目指したFBG作製技術の開発
- フェムト秒パルスレーザによる材料除去加工
- イオンサイクロトロン共鳴フ-リエ変換質量分析法のレ-ザ-マテリアルプロセッシングへの応用
- 短パルスレーザーを用いた表面加工技術の開発
- Mo-Siミラーの光洗浄と光脱離分析評価
- レーザー生成プラズマ極端紫外光源の開発と表面分析への応用
- 第30回レーザ・光応用に関する国際会議(ICALEO 2011)会議報告
- 31a-PS-64 BiPbSrCaCuO系超伝導体におけるCuO層数とTcとの関係(31a PS 低温(酸化物超伝導))