Y_2O_3添加AlNのミリ波帯電磁波焼結
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2000-05-16
著者
-
松本 武
大阪大学接合科学研究所
-
巻野 勇喜雄
阪大接合研
-
三宅 正司
阪大接合研
-
三宅 正司
近畿大学リエゾンセンター
-
巻野 勇喜雄
Osaka Univ. Ibaraki Jpn
-
巻野 勇喜雄
大阪大学 接合科学研究所
-
巻野 勇喜雄
大阪大学接合科学研究所加工システム部門エネルギー変換機構学分野
-
松本 武
阪大院工
関連論文
- 放電プラズマ焼結によるB-C系助剤を添加した炭化ケイ素の作製とそれらの機械的特性
- イオンビーム支援蒸着法によるHfO_2薄膜の合成
- イオンビーム支援蒸着法を用いたCeO_2薄膜合成におけるモルフォロジーに及ぼすイオン照射効果
- 28GHzミリ波加熱法により焼結された窒化ケイ素セラミックスの材料物性解析(GS10 セラミックス・腐食)
- 430 Yb_2O_3+Al_2O_3 を添加した窒化ケイ素セラミックスの高温条件下での硬度について
- 自由空間タイムドメイン法によるアルミナのミリ波誘電率測定
- 214 28GHz ミリ波加熱法により作製された窒化ケイ素セラミックスの高温硬さ測定
- 大出力28GHzミリ波加熱法による窒化珪素の低温焼結
- 234 28GHzミリ波加熱法により作製された窒化ケイ素セラミックスの機械的特性について(OS6-8 材料評価)(OS6 実験力学の新展開)
- 28GHzミリ波加熱法による窒化珪素の焼結と Yb_2O_3-Al_2O_3系新助剤の開発
- 大出カミリ波加熱法による高純度アルミナの焼結
- クロムイオンの光学吸収から見たアルミナの焼結におけるミリ波効果
- ミリ波焼結窒化ケイ素におけるYb_2O_3系助剤の役割
- ミリ波加熱法によるCaO-Yb_2O_3助剤添加AlNの低温焼結
- AINのミリ波焼結における最適Yb_2O_3助剤添加量の検討
- 窒化アルミニウムのミリ波焼結における希土類酸化物助剤添加の効果
- 窒化アルミニウムのミリ波焼結における添加助剤の比較
- Yb_2O_3助剤添加AINのミリ波焼結
- ミリ波加熱法を用いたAlN焼結体作製における助剤の比較
- ミリ波照射による大気中でのFe_2O_3の還元反応
- ジャイロトロン発振ミリ波による金属の表面処理
- 29pA04P ECRマイクロ波スパッタリングにおける基板入射イオンエネルギー分布の計測(プラズマ基礎・応用)
- 高品質SrTiO_3薄膜の低温合成
- ミラー型ECRプラズマスパッタリングによるベロブスカイト型チタン酸化物薄膜合成
- ミラー閉じこめ型ECRプラズマスパッタリングによるSrTiO_3薄膜の低温合成
- ミラー型ECRプラズマスパッタリングによるSrTiO_3薄膜合成
- 225 厚板のレーザフォーミングにおける入熱分布の効果 : 2kW級高出力半導体レーザシステムによる材料加工特性の検討(第6報)
- 152 カレイドスコープを用いたフォーミング : 2kW級高出力半導体レーザシステムによる材料加工特性の検討(第5報)
- 122 厚板のレーザフオーミング : 2kW級高出力半導体レーザシステムによる材料加工特性の検討(第四報)
- 高出力半導体レーザによる厚鋼板のフォーミング
- 419 酸化チタン皮膜形成におけるビーム斜入射効果 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第 7 報)
- エアロゾルデポジッション法によるハイドロキシアパタイト皮膜形成
- 120 ビーム入射角制御によるハイドロキシアパタイトコーティング技術 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第6報)
- 406 ハイドロキシアパタイト皮膜形成のための照射条件に関する実験的検討 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第5報)
- 厚鋼板のレーザ・アーク複合高速度溶接における溶接メカニズムの解明
- 401 酸化チタン皮膜形成のための照射条件に関する実験的検討 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第4報)
- 151 高速度撮影による成膜メカニズムの検討 : 電子ビ-ムクラッディングに関する基礎的研究(第6報)
- 温度分布と曲がり角の関係高出力半導体レーザによる厚鋼板のフォーミング(第2報)
- 335 成膜パラメータと皮膜特性の関係 : 電子ビームクラッディングに関する基礎的研究(第5報)
- 329 ステンレス鋼基板上への酸化チタン皮膜形成 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第三報)
- 高出力半導体レーザによる厚鋼板のフォーミング
- 超微粒子ビームによる機能性セラミックス皮膜形成
- 530 機能性セラミックスの厚膜生成 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第二報)
- 453 半導体レーザによるフオーミング : 2kW級高出力半導体レーザシステムによる材料加工特性の検討(第3報)
- 高出力・高エネルギー密度半導体レーザによる薄板の高速度溶接
- 318 薄板の高速度溶接 : 2kW級高出力半導体レーザシステムによる材料加工特性の検討(第二報)
- 大電流通電加熱法によるアナターゼの緻密化と微細組織
- 電磁エネルギー加熱による各種アルミナの焼結
- 電磁エネルギー急速加熱法によるアナターゼの固化体の合成
- PZTエアロゾル堆積膜の構造変化に及ぼすミリ波ポストアニール効果 (特集 ナノレベル電子セラミックス材料低温・集積化技術)
- イオン照射によるHfO_2薄膜の構造変化
- Low Temperature Millimeter-Wave Sintering of Aluminum Nitride with Oxide Additive of CaO-Al_2O_3-Yb_2O_3 System
- Dense Nano-structured and Preferentially-oriented Anatase Synthesized by Pulsed High Current Heating
- Effect of Ytterbia Addition on Millimeter-Wave Sintering of Aluminum Nitride(Materials, Metallurgy & Weldability)
- ミリ波加熱を用いて結晶化されたSrBi_2Ta_2O_9強誘電体薄膜の特性
- ミリ波加熱を利用した不揮発性メモリー用強誘電体薄膜のアニーリング
- Y_2O_3添加AlNのミリ波帯電磁波焼結
- ミリ波焼結法による高熱伝導性AINの合成
- 1G21 28GHz ミリ波を用いた窒化ケイ素の焼結
- Densification Behavior and Crystallite Growth in Alumina-YSZ Composites Sintered by Millimeter-wave Heating
- OS8(P)-28(OS08W0211) A Study on the Mechanical Properties of Silicon Nitride Ceramics Sintered by 28GHz Millimeter-Wave Heating Method
- 327 イオンビーム支援蒸着法によるc-BN薄膜の合成
- 326 c-BN薄膜合成におけるイオンビームを用いた界面制御
- Effects of Ion-Beam-Irradiation on Morphology and Densification of CeO_2 Films Prepared by Ion-Beam-Assisted Deposition
- Mechanical Property of Dissimilar Material Nanocomposites Prepared by Ion Beam Assisted Sputtering Process(Physics, Processes, Instruments & Measurements)
- 解説 ミリ波加熱法の特徴とセラミックス部材の高品質化
- 新産業創出と独創的研究 ポリシリコン薄膜合成の現状と課題
- 電磁エネルギーの実用技術と設計 大電力ミリ波による材料プロセッシング
- 606 大出力 28GHz ミリ波帯電磁波によるセラミックス焼結加工
- 電磁エネルギー加熱法による新材料創製の可能性
- ミリ波照射材料加工・処理の現状と課題
- 224 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究
- 等価原子間距離による希土類金属のd性について
- Influence of Substrate Biasing on (Ba, Sr)TiO_3 Films Prepared by Electron Cyclotron Resonance Plasma Sputtering
- Morphology and Microstructure of Hard and Superhard Zr-Cu-N Nanocomposite Coatings
- Zr-based Hydrogen Absorbing Films Prepared by Ion Beam Assisted Deposition(Physics, Processes, Instruments & Measurements)
- Hydroxyapatite Film Formation by Aerosol Deposition Method(Physics, Processes, Instruments & Measurements, INTERNATIONAL SYMPOSIUM OF JWRI 30TH ANNIVERSARY)
- 229 粉末供給法によるクロム炭化物/Ni-Cr混合皮膜の作製とその特性 : 電子ビームクラッデイングに関する基礎的研究(第4報)
- 有磁場アークイオンプレーティング法によるa-C薄膜の形成
- Deposition of Hydroxyapatite Film on Titanium by Ultra-fine Particle Beam(Physics, Processes, Instruments & Measurements)
- Laser Forming of Thick Steel Plates by a 2kW Diode laser with a Kaleidoscope(Physics, Processes, Instruments & Measurements)
- Kinetics of Densification and Phase Transformation at Microwave Sintering of Silicon Nitride with Alumina and Yttria or Ytterbia as Additives (特集 放電焼結の基礎と応用)
- Effect of Formation Parameters on Layer Properties in Electron Beam Cladding with Powder Feeder
- Formation of Cr_3C_2/Ni-Cr Alloy Layer by an Electron Beam Cladding Method and Evaluation of the Layer Properties
- Forming of Thick Steel Plates with Diode Laser
- Welding and Forming of Steel Plates with Diode Laser(Physics, Processes, Instruments & Measurements)
- High speed welding of thin steel plates with high power and high power density diode laser system
- 簡易電子論による硬質材料の構造制御について
- 単一ギャップモデルによる化合物の体積弾性率の評価
- 体積弾性率から評価した希土類酸化物の結合特性
- プラズマ源I(無磁場)
- パルス通電プロセスにおけるシリカ/カーボン間の界面現象
- Si薄膜の結晶性に対するポストアニーリング効果
- 高純度アルミナのミリ波焼結における断熱構成依存性
- ECRプラズマスパッタリング法による次世代半導体メモリー用薄膜の合成
- SPS焼結法による銅/カーボン複合体の緻密化
- Mirror-Confinement-Type ECR プラズマスパッタリング法によるSrBi_2Ta_2O_9薄膜の合成
- MOD法によるSrBi_2Ta_2O_9強誘電体薄膜の低温合成
- SPS(パルス通電加熱)法による材料加工・創製
- 窒化ケイ素のミリ波焼結における焼結性および機械的特性に与える希土類酸化物系助剤の効果