SiGe系量子効果デバイス : 共鳴トンネルダイオード(RTD)とGeドットアレイ技術
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概要
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- 2007-02-16
著者
-
須田 良幸
東京農工大学大学院工学府
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前川 裕隆
東京農工大学大学院工学府
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佐野 嘉洋
東京農工大学大学院工学府
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高橋 陽一
東京農工大学大学院工学府
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小林 忠正
東京農工大学大学院工学府
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花房 宏明
東京農工大学大学院工学府
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須田 良幸
東京農工大学
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須田 良幸
東京農工大学大学院 工学府
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花房 宏明
東京農工大学
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