難波 秀利 | 東大理
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概要
関連著者
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難波 秀利
東大理
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黒田 晴雄
東大理
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黒田 晴雄
新技術事業団
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難波 秀利
立命館大理工
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黒田 晴雄
東大理、新技術開発事業団
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難波 秀利
東大. 理
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太田 俊明
東大理
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菅 滋正
阪大基礎工
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太田 俊明
立命館大学SRセンター
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大門 寛
阪大基礎工
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西本 浩之
阪大基礎工
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中谷 健
阪大基礎工
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籠島 靖
KEK-PF
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宮原 恒〓
都立大・院理
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篭島 靖
姫工大院・理・物質科学
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山口 徹
東大 理
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奥田 太一
阪大基礎工
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山口 徹
東大理
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中西 紀元
東大理
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谷口 雅樹
広大理
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村田 好正
物性研
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坂本 一之
千葉大院融合
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朝倉 清高
東大理
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朝倉 清高
北大触媒セ
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坂本 一之
阪大基礎工
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坂木 一之
東北大院理
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中辻 寛
阪大基礎工
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米澤 卓也
阪大基礎工
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太田 俊明
広大理
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大川 祐司
東大理
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朝倉 清高
北大触媒化学研究センター
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大門 寛
東大理
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篠田 潤
阪大基礎工
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難波 秀利
東大 理
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植山 公助
新技術
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山本 薫
分子研
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今田 真
阪大基礎工
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北島 義典
KEK-PF
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山本 薫
東大理
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石井 秀司
京都大学大学院工学研究科材料工学専攻:(現)(株)イオン工学研究所
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菅 滋正
物性研
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小杉 信博
京大工
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生天目 博文
東大理
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大門 寛
奈良先端大物質創成:crest-jst
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松原 秀樹
Engineering Research Institute University Of Tokyo
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窪田 政一
東大物性研
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内藤 方夫
NTT基礎研
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宮原 恒〓
高エ研
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植田 義文
徳山高専
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窪田 政一
物性研
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宮原 恒〓
都立大理
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管 滋正
阪大基礎工
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小杉 信博
京大分子工学
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高富 俊和
高エネ研
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東 保男
高エネ研
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松下 智裕
阪大基礎工
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宮原 恒〓
高エ研PF
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北島 義典
高エネルギー加速器研究機構pf
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藤川 高志
横国大工
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藤川 高志
千葉大院・自然
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小泉 光生
原研
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宮原 恒〓
Kek Pf
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東 保男
東大宇宙線研
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高富 俊和
高エネルギー加速器研究機構
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松原 秀樹
阪大基礎工
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小泉 光生
新技術
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横山 浩一
広島大理
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宮原 恒〓
高エネ研
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西原 克浩
広大理
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宮原 恒
都立大・院理
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宮原 恒〓
KEK-PF
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内藤 方夫
Ntt
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雨宮 健太
東大. 理
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今川 大
横国大工
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井野 正三
東大理
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金田 修明
東大理
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籠島 靖
高エネ研放射光
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大高 明浩
東大理
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小池 重明
高エネ研
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小泉 晉
高エネ研
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大田 俊明
東大. 理
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今西 哲士
東大. 理
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伊澤 一也
東大. 理
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今西 哲士
東大大理
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伊澤 一也
東大大理
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篭島 靖
高エネ研
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鄭 在官
ソウル大
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Oh J-S
ソウル大
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宮原 恒[アキ]
高エネ研
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籠島 靖
高エ研
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堀 寛宣
阪大基礎工
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籠島 靖
高エネ研PF
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宮原 恒〓
高エネ研PF
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籠島 靖
高エ研PF
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手塚 好弘
東大理
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黒田 晴雄
東大 理
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浅井 整一
広大理
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石井 秀司
東大理
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船橋 学
新技術開発事業団
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佐々木 浩行
広大理
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横山 浩一
広大理
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井手 大輔
広大理
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浅井 整一
広島大学理学部
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船橋 学
理学電機
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難波 秀利
東大・理
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野口 昭彦
東大・理
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黒田 晴雄
東大・理
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李 相吉
東大理
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籠島 靖
高エネ研
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井手 大輔
広島大学理学部
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今川 大
横浜国大工
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大門 寛
奈良先端大物質創成
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手塚 好弘
川鉄ハイテク研
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雨宮 健太
高エネ機構物構研pf
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小池 重明
高エ研
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高富 俊和
高エ研
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出井 陽治
東大理
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増田 正孝
東大理
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宮原 恒〓
KEK
著作論文
- 26p-P-10 Si(100)上の表面水酸基による低速電子の負イオン共鳴散乱と吸着状態
- 3a-C4-11 K/Si(001)の光電子分光II
- 25p-Z-6 グラファイトのバンドの二次元測定
- 25p-Z-10 X線吸収端近傍微細構造を用いた窒素原子の吸着によるNi(111)表面再配列の研究
- 大型トロイダルミラー加工の研究 -ビームライン上での性能評価-
- 28p-YQ-5 光電子スペクトルの二次元角度分布 : 1T-TaS_2の場合
- 28p-PSB-25 光電子回折法によるGaAs(110)表面の酸化構造の研究
- 28p-PSB-8 W(001)表面の光電子回折パターン
- 29p-H-6 1T-TaS_2の二次元UPS測定
- 29a-G-8 光電子ホログラフィー
- 1p-Z-11 表面EXAFSによる(1×1)S/Ni(7 9 11)および(√×√)R30゜S/Ni(7 9 11)の構造決定
- 31a-S-9 角度分解光電子分光によるNi(755)単結晶ステップ表面の電子状態
- 28p-PSB-11 Si(100)表面に化学吸着したエチレンの光刺激脱離スペクトル
- 26p-M-16 SnSe, SnTeの光電子および逆光電子分光
- 28p-Z-5 Si(100)上へのジメチルゲルマンの吸着と光分解
- 27a-E-12 Ni(7911)ステップ面の表面物性
- 25p-PS-37 角度分解光電子分光によるNi(7 9 11)ステップ面の電子状態の研究
- 24a-PS-10 Si(100)上に吸着したアンモニアの光分解
- 2a-E-5 Ni(7911)ステップ面へのNa吸着の研究
- 30p-TA-11 価電子領域の光刺激脱離における2電子励起過程
- 6p-T-9 水素吸着によるNi(7911)面のステップ構造変化
- 5a-B4-5 シンクロトロン放射励起によるH_2O/Si(100)の光刺激脱離スペクトル
- 31a-T-5 新球面鏡分析器によるシンクロトロン放射光電子の角度分布パターンの測定
- 13a-Ps-16 NO/Si(111)の光刺激脱離
- 12a-DH-5 Cl/Si(111)の放射光による光刺激脱離
- 31a-M2-8 シンクロトロン放射VUV,軟X線固体表面分光解析設備(表面・界面)