岡田 浩尚 | 東京大学大学院工学系研究科:(現)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門
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概要
関連著者
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岡田 浩尚
東京大学大学院工学系研究科:(現)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門
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須賀 唯知
東京大学
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伊藤 寿浩
産業技術総合研究所集積マイクロシステム研究センター
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伊藤 寿浩
産業技術総合研究所 集積マイクロシステム研究センター
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岡田 浩尚
東京大学大学院工学系研究科
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須賀 唯知
東京大学先端科学技術研究センター
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須賀 唯知
東京大学大学院工学系研究科
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前田 龍太郎
独立行政法人 産業技術総合研究所
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前田 龍太郎
産業技術総合研究所
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高木 秀樹
産総研
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須賀 唯知
東京大学大学院工学系研究科精密機械工学専攻
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伊藤 寿浩
東京大学大学院工学系研究科
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高木 秀樹
産業技術総合研究所
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伊藤 寿浩
東京大学先端科学技術研究センター
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HOWLADER M.
東京大学先端研
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前田 龍太郎
産業技術総合研
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高木 秀樹
産業技術総合研
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須賀 唯知
東京大学大学院 工学系研究科
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前田 龍太郎
産総研
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岡田 浩尚
産業技術総合研究所
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伊藤 寿浩
産業技術総合研究所
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奈良 友寿
職業能力開発総合大学校
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伊藤 寿浩
産業技術総合研
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伊藤 俊輔
東京大学大学院
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前田 龍太郎
独立行政法人 産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門
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野上 大史
産総研
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岡田 浩尚
National Inst. of Adv. Industrial Sci. and Tech. (AIST):JST-CREST
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小林 健
National Inst. of Adv. Industrial Sci. and Tech. (AIST)
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Gang V.
National Inst. of Adv. Industrial Sci. and Tech. (AIST)
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増田 誉
東大
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伊藤 寿浩
National Inst. of Adv. Industrial Sci. and Tech. (AIST)
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伊藤 寿浩
National Inst. of Adv. Industrial Sci. and Tech. (AIST):JST-CREST
著作論文
- SCREAM法を用いた真空封止評価専用デバイスの開発
- 常温封止接合におけるAuスパッタ薄膜表面形状の影響
- 常温封止接合プロセスと封止性能評価用センサーの開発
- Si/Si, Si/CuのAr高速原子ビームによる表面活性化常温封止接合(SiP要素技術と信頼性解析, 先端電子デバイス実装技術と解析・評価技術の最新動向論文)
- 表面活性化法による封止接合(第2報) : 評価用Siマイクロ構造の設計と製作
- 表面活性化法による封止接合
- Φ200mmSiウエハの常温接合(第2報) : Au薄膜の接合性の検討
- 811 低周波数振動領域で使用可能なワイヤレスセンサ端末のための圧電MEMSスイッチ(OS8-(3)オーガナイズドセッション《マイクロマシンとG-MEMS/N-MEMS》)