甲野藤 真 | 産業技術総合研 つくば中央第4事業所
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概要
関連著者
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甲野藤 真
産業技術総合研 つくば中央第4事業所
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高橋 研
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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甲野藤 真
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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角田 匡清
東北大 大学院工学研究科
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角田 匡清
東北大院工
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高橋 研
東北大
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高橋 研
東北大学大学院工学研究科
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高橋 研
東北大学工学研究科電子工学専攻
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角田 匡清
東北大学工学部電子工学科
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甲野藤 真
東北大学工学研究科電子工学専攻
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釆山 和弘
シャープ(株)精密技術開発センター
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角田 匡清
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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甲野藤 真
産業技術総合研究所つくば中央第4事業所アトムテクノロジー研究体
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角田 匡清
東北大学大学院 工学研究科
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高橋 研
東北大学大学院 工学研究科電子工学専攻
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北上 修
東北大学多元物質科学研究所
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谷口 知大
産業技術総合研究所(AIST)
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今村 裕志
産業技術総合研究所
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鈴木 義茂
大阪大学大学院基礎工学研究科
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福島 章雄
産業技術総合研究所
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薬師寺 啓
産業技術総合研究所
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湯浅 新治
産業技術総合研究所
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島田 寛
東北大学大学院工学研究科
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甲野藤 真
産総研
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松山 秀生
北大理
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川越 毅
産業技術総合研究所つくば中央第4事業所アトムテクノロジー研究体
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甲野藤 真
産総研エレクトロニクス研究部門
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藤田 忍
東芝研究開発センター
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島田 寛
東北大学多元物質科学研究所
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與田 博明
東芝研究開発センター
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棚橋 究
日立製作所中央研究所
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塩田 陽一
大阪大学大学院基礎工学研究科
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平山 義幸
日立製作所 中央研究所
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土屋 芳弘
東北大
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島田 寛
東北大
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平山 義幸
日立製作所中央研究所
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小池 和幸
産業技術総合研究所つくば中央第4事業所アトムテクノロジー研究体:産業技術総合研究所強相関電子技術研究センター:日立製作所中央研究所
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松山 秀生
日立製作所 基礎研究所
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高橋 研
東北大工学部
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佐藤 岳
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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金村 崇
日立サイエンスシステムズ
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橋本 崇彦
東北大
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甲野藤 真
産業技術総合研究所 強相関電子技術研究センター
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橋本 崇彦
東北大学大学院工学研究科電子工学専攻
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佐藤 岳
東北大学工学研究科電子工学専攻
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角田 匡清
東北大工学部
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甲野藤 真
東北大工学部
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荒井 礼子
産業技術総合研究所
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久保田 均
産業技術総合研
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佐藤 岳
東北大
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安藤 功兒
産業技術総合研
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北川 英二
東芝研究開発センター
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下村 尚治
東芝研究開発センター
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前原 大樹
産業技術総合研究所 ナノスピントロニクス研究センター
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野崎 隆行
産業技術総合研究所
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安部 恵子
東芝研究開発センター
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伊藤 順一
東芝研究開発センター
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野村 久美子
東芝研究開発センター
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BONELL Frederic
大阪大学大学院基礎工学研究科
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野口 紘希
東芝研究開発センター
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福島 章雄
産業技術総合研究所ナノスピントロニクス研究センター:科学技術振興機構
著作論文
- 高密度パターンドメディア用磁性微粒子アレイの作製 : 垂直磁気記録媒体
- 磁界中熱処理による強磁性/反強磁性多結晶積層膜の交換磁気異方性の可逆的方向制御
- Ni-Fe/Mn-Ni面内高配向膜による反強磁性膜の磁気異方性解析
- 蒸着法で作製したNi-Fe/Mn-(Ni-Fe)積層膜の構造と交換磁気異方性
- 面内高配向Ni-Fe/Mn-Ni交換結合膜の磁気トルク解析から求めた反強磁性層の磁気異方性
- 対向ターゲット式スパッタ法によるMgO単結晶基板上へのNi-Fe/Mn-Ni積層膜のエピタキシャル成長
- 蒸着法で作製したNi-Fe/Mn-(Ni-Fe)積層膜の構造と交換磁気異方性
- Ni-Fe/Mn-Ni面内高配向膜の構造と交換磁気異方性(II) -反強磁性膜の磁気異方性の磁気トルク解析-
- Ni-Fe/Mn-Ni面内高配向膜の構造と交換磁気異方性(I) -MgO単結晶基板上へのエピタキシャル成長-
- Ni-Fe/Mn_Ni_x積層膜の交換結合に及ぼす結晶配向面変化の影響
- Ni-Fe/Ni-Mn膜の交換結合に及ぼす結晶配向面変化の影響
- Ni-Fe/25 at%Ni-Mn膜の交換結合に及ぼす界面ガス吸着の影響 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- Ni-Fe/25 at%Ni-Mn積層膜の交換結合に及ぼす基板表面クリーニングの効果 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- Ni-Fe/Ni_Mn_膜の交換結合に及ぼす界面ガス吸着の影響
- Ni-Fe/Ni_Mn_膜の交換結合に及ぼす基板表面クリーニングの効果
- スピン偏極SEM
- 不揮発性メモリMRAMの現状と将来展望(先端CMOSデバイス・プロセス技術(IEDM特集))