中村 圭二 | 中部大学工学部電気システム工学科

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概要

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関連著者

• 中村 圭二

  中部大学工学部電気システム工学科

• 菅井 秀郎

  中部大学工学部

• Sugai Hideo

  Department Of Electrical Engineering School Of Engineering Nagoya Univeristy

• 菅井 秀郎

  名古屋大

• 菅井 秀郎

  中部大学工学部電気システム工学科

• 菅井 秀郎

  中部大学

• 菅井 秀郎

  中部大学大学院工学研究科

• 中村 圭二

  中部大学工学部

• Sugai Hideo

  Nagoya University

• Sugai Hideo

  Department Of Electrical Engineering Graduate School Of Engineering Nagoya University

• 中村 圭二

  中部大学

• 菅井 秀郎

  名古屋大学工学部

• 菅井 秀郎

  名古屋大学大学院工学研究科

• 菅井 秀郎

  名古屋大学大学院

• 張 祺

  中部大学工学部電気システム工学科

• 中村 圭二

  名古屋大学工学部電気工学教室

• 安藤 正樹

  名古屋大学大学院工学研究科電気工学専攻

• 張 祺

  中部大学

• 大脇 政典

  名古屋大学大学院

• 鈴木 啓之

  名古屋大学大学院情報科学研究科

• 原田 亮

  中部大学

• 菅井 秀郎

  名大工

• 安藤 正樹

  名大工

• 中村 圭二

  中大工

• 糟谷 憲昭

  中部大学

• 米田 慎一

  名古屋大学大学院工学研究科

• 小倉 輝

  名古屋大学

• 松永 大輔

  富士通

• 中村 守孝

  富士通

• 松本 直樹

  住友金属

• 小西 英介

  名古屋大学

• 鈴木 啓之

  名古屋大学

• 伊藤 慎祥

  中部大学

• 高 軍思

  中部大学

• 中野 由崇

  中部大学

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著作論文

• 周波数シフトプローブを用いたプラズマ計測
• 周波数シフトプローブにおける膜堆積の影響
• 周波数シフトプローブの電子温度計測への応用
• 周波数シフトプローブを用いた電子密度測定におけるプローブ形状の影響
• デュアル表面波プローブを用いた電子密度・電子温度の計測
• プラズマイオン注入における平板ターゲットの二次電子放出率の計測
• 29pA10P プラズマからの真空紫外光とプラズマイオン注入における二次電子放出係数(プラズマ基礎・応用)
• 半導体検出器を用いたプラズマイオン注入における二次電子計測
• 27aA04 プラズマ吸収プローブを用いた有磁場プラズマの密度測定(プラズマ基礎・応用)
• 高周波バイアスを用いた高密度プラズマエッチャー内壁における膜堆積抑制
• イオン衝撃による酸化膜エッチャーの壁制御
• 26aB6 新しい高周波バイアス法による壁制御とエッチングへの応用(ヘリカル/プラズマ応用)
• 表面波励起エッチャーにおけるプラズマ診断とラジカル組成
• アンテナの容量終端による誘導プラズマの高密度化
• 3. 誘導結合プラズマ : プロセス用の新しい高密度プラズマの生成と診断 III
• 13p-DG-6 誘導RF放電による非磁化プラズマ生成
• 反応性プロセシングプラズマにおける電子密度測定用平板型マイクロ波共振器プローブとシース効果
• 反応性プロセシングプラズマにおける電子密度測定用平板型マイクロ波共振器プローブとシース効果
• スパッタリングを用いた金属イオン源とその応用
• プラズマ中での高エネルギー電子ビームの発生と In-situ 表面モニタリングへの応用

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