水田 博 | 日立製作所中央研究所
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概要
関連著者
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水田 博
東京工業大学大学院理工学研究科
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水田 博
日立製作所中央研究所
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山口 憲
(株)日立製作所中央研究所
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水田 博
Hitachi Canbridge Laboratory
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手嶋 達也
(株)日立製作所 基礎研究所
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田部 道晴
静岡大学電子工学研究所
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Tare Michiharu
Research Institue Of Electronics Shizuoka University
-
モラル ダニエル
静岡大学電子工学研究所
-
水野 武志
静岡大学電子工学研究所
-
Tabe Michiharu
Ntt Lsi Laboratories:(present Address)research Institute Of Electronics Shizuoka University
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手嶋 達也
株式会社日立製作所中央研究所
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水田 博
株式会社日立製作所中央研究所
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山口 憲
株式会社日立製作所中央研究所
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田部 道晴
静岡大学 電子工学研究所
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葛屋 陽平
静岡大学電子工学研究所
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水田 博
北陸先端科学技術大学院大学
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小田 俊理
東工大工
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小田 俊理
東工大量子ナノ研:sorst-jst
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鄭 仰東
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター
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土屋 良重
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター
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佐藤 大典
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター
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小田 俊理
東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター
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ODA Shunri
Research Center for Quantum Effect Electronics, Tokyo Institute of Technology
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大部 功
日立製作所中央研究所
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大部 功
(株)日立製作所中央研究所
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加賀谷 修
(株)日立製作所中央研究所
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大倉 康幸
(株)日立製作所中央研究所
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井原 茂男
日立製作所中央研究所
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ヤンセン フィリップ
日立製作所中央研究所
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ワグナー マティアス
日立ケンブリッジ研究所
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山口 憲
日立製作所中央研究所
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加賀谷 修
日立製作所中央研究所
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大倉 康幸
日立製作所中央研究所
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片山 弘造
日立製作所中央研究所
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Oda S
Tokyo Inst. Technology Tokyo Jpn
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Oda S
Tokyo Inst. Technol. Tokyo Jpn
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Oda Shunri
Quantum Nanoelectronics Research Center Tokyo Institute Of Technology
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Oda Shunri
Research Center For Quantum Effect Electronics And Department Of Physical Electronics Tokyo Institut
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Oda Shunri
The Graduate School At Nagatsuta Tokyo Institute Of Technology
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井原 茂男
(株)日立製作所中央研究所
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小田 俊理
東京工業大学総合理工学研究科
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大部 功
日立 中研
著作論文
- HfO_2薄膜成長過程の分光エリプソメトリによるその場観察と第一原理計算との比較(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
- デバイスシミュレーションによるDRAMメモリセルリーク電流解析
- デバイスシミュレーションによるDRAMメモリセルリーク電流解析
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- エネルギ輸送モデルに基づく微細半導体シミュレーション
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- ヘテロ接合FETのアクセス領域における量子輸送
- 高濃度ドープチャネル移動度の電子濃度依存性解析
- 第一原理計算によるシリコンナノトランジスタ中の単一リン不純物の電子状態解析(機能ナノデバイス及び関連技術)
- 第一原理計算によるシリコンナノトランジスタ中の単一リン不純物の電子状態解析(機能ナノデバイス及び関連技術)