八木 拓真 | NTTアドバンステクノロジ株式会社
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概要
関連著者
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小林 隆
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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小田 康裕
日本電信電話株式会社NTTフオトニクス研究所
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八木 拓真
NTTアドバンステクノロジ株式会社
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渡邉 則之
日本電信電話株式会社nttフォトニクス研究所:(現)nttアドバンステクノロジ株式会社
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小田 康裕
日本電信電話株式会社nttフォトニクス研究所
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渡邉 則之
日本電信電話株式会社
-
渡邉 則之
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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横山 春喜
NTTフォトニクス研究所
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小林 隆
NTTフォトニクス研究所
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横山 春喜
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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廣木 正伸
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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横山 春喜
日本電信電話株式会社
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横山 春喜
日本電信電話
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渡邉 則之
NTTアドバンステクノロジ株式会社
著作論文
- Si基板上にMOCVD成長した高品質InAlN/GaN HEMTエピ
- Si基板上にMOCVD成長した高品質InAlN/GaN HEMTエピ(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般)
- C-10-5 GaN系HEMT用エピでの光照射による電流コラプスの回復と励起波長との関係(C-10.電子デバイス,一般セッション)
- Si基板上にMOCVD成長した高品質InAlN/GaN HEMTエピ
- Si基板上にMOCVD成長した高品質InAlN/GaN HEMTエピ(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般)
- Si基板上にMOCVD成長した高品質InAlN/GaN HEMTエピ