大久保 聡 | 富士通研究所
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概要
関連著者
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大久保 聡
富士通研究所
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高崎 金剛
富士通研究所
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中西 俊郎
富士通研究所
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田村 泰之
富士通研究所
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滋野 真弓
株式会社富士通研究所
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杉野 林志
スパンション株式会社:東北大学大学院工学研究科
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福田 哲生
富士通(株)
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伊藤 隆司
東北大学大学院工学研究科
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助川 和雄
富士通株式会社
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助川 和雄
富士通
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渡辺 孔
富士通(株)ULSI開発部
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東 雅彦
富士通(株)
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杉野 林志
株式会社富士通研究所
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奥井 芳子
株式会社富士通研究所
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大久保 聡
株式会社富士通研究所
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高崎 金剛
株式会社富士通研究所
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伊藤 隆司
株式会社富士通研究所
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入野 清
富士通研究所
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滋野 真弓
富士通研究所
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日数谷 健一
富士通(株)
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鷹尾 泰弘
富士通
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大久保 聡
(株)富士通研究所
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田村 泰之
(株)富士通研究所
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杉野 林志
(株)富士通研究所
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中西 俊郎
(株)富士通研究所
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高崎 金剛
(株)富士通研究所
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伊藤 隆司
富士通研究所
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伊藤 隆司
東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
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渡辺 孔
富士通
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杉野 林志
富士通研
著作論文
- UV/Cl_2ドライクリーニングメカニズム : 表面Fe汚染除去におけるSiCl_4の効果
- 酸窒化技術を使った高性能・高信頼の Deep Sub-micron CMOS-FET
- サイドウォールNOアニールによる0.18μmCMOSの信頼性向上
- 自然酸化膜をUV/O_3処理することによる薄いゲート酸化膜の高品質化