三木 浩史 | (株)日立製作所中央研究所ULSI研究所

スポンサーリンク

概要

• 同名の論文著者
• (株)日立製作所中央研究所ULSI研究所の論文著者

関連著者

• 三木 浩史

  (株)日立製作所中央研究所ULSI研究所

• 三木 浩史

  (株)日立製作所 中央研究所

• 鳥居 和功

  日立・中研

• 櫛田 恵子

  (株)日立製作所中央研究所ULSI研究所

• 藤崎 芳久

  (株)日立製作所中央研究所

• 藤崎 芳久

  (株)日立製作所

• 嶋本 泰洋

  (株)日立製作所中央研究所

• 鳥居 和功

  (株)日立製作所 中央研究所

• 三木 浩史

  株式会社日立製作所中央研究所

• 嶋本 泰洋

  株式会社日立製作所中央研究所

• 櫛田 恵子

  株式会社日立製作所中央研究所

• 鳥居 和功

  株式会社日立製作所中央研究所

• 藤崎 芳久

  株式会社日立製作所中央研究所

• 藤崎 芳久

  日立製作所中央研究所

• 高田 啓二

  日立・基礎研

• 櫛田 恵子

  日立・中研

• 三木 浩史

  日立・中研

• 入江 隆史

  日立・中研

• 高田 啓二

  日立基礎研

• 手賀 直樹

  (株)日立製作所 中央研究所

• 三木 浩史

  日立製作所中央研究所

• 三木 浩史

  日立製作所 中央研究所

もっと見る 閉じる

著作論文

• 水素還元プロセスによるPt/Pb(Zr, Ti)O_3/Ptキャパシタ電気特性の変化
• 強誘電体薄膜作製技術とプロセス技術
• C1 トンネル音響顕微鏡によるPZT薄膜の観察(超音波非破壊評価)
• 微細MOSFETにおけるランダム・テレグラフ・ノイズの影響
• 強誘電体PZTのMOCVD成長(酸化物のエピタキシー)
• ULSI用MOCVD-PZT薄膜の形成と電気特性

スポンサーリンク