横山 浩 | 電子技術総合研究所
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概要
関連著者
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横山 浩
電子技術総合研究所
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横山 浩
産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門
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井上 貴仁
産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門
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井上 貴仁
電子技術総合研究所
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井上 貴仁
サントリー(株)生物医学研究所
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多辺 由佳
電子技術総合研究所
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多辺 由佳
産総研
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伊藤 順司
電子技術総合研究所プロセス基礎研究室
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伊藤 順司
産業技術総合研究所
-
伊藤 順司
電子技術総合研究所
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斉藤 和裕
産業技術総合研究所
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斉藤 和裕
電子技術総合研究所超分子部
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金丸 正剛
産業技術総合研究所
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若松 孝
茨城工業高等専門学校
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斉藤 和裕
電総研
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金丸 正剛
電子技術総合研究所
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安室 千晃
産業技術総合研究所
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山本 恵彦
独立行政法人産業技術総合研究所 中央第2エレクトロニクス研究部門
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横山 浩
電総研
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平野 貴之
(株)神戸製鋼所
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水谷 文雄
Graduate School Of Material Science University Of Hyogo
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亀井 裕孟
電総研
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平田 芳樹
産総研
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多辺 由佳
産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門
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多辺 由佳
工業技術院電子技術総合研究所
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榊原 陽一
電子技術総合研究所
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榊原 陽一
電総研
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鄭 斗漢
東工大・工
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平野 貴之
神戸製鋼所
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山本 恵彦
筑波大学
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水谷 文雄
生命工学工技研
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山本 恵彦
筑波大学物理工学系
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鄭 斗漢
電子技術総合研究所
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木村 雅之
電子技術総合研究所
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安室 千晃
東海大学
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名塚 雄太郎
東海大学
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牧野 匡博
筑波大学
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江原 啓吾
東洋鋼鈑株式会社
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平田 芳樹
生命工学工業技術研究所
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曽良 達生
生命工学工業技術研究所
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Mark J.Jeffery
電子技術総合研究所
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三橋 慶喜
科学技術振興事業団
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辛 熏珪
電子技術総合研究所, 超分子部
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重藤 知夫
電子技術総合研究所
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亀井 裕孟
電子技術総合研究所
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水谷 文雄
産業技術総合研 生物機能工学研究部門
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辛 熏珪
電子技術総合研究所 超分子部
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木村 雅之
Jsr(株)ディスプレイ研究所
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山本 恵彦
筑波大学・物理工学系
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金子 双男
東京工業大学
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Braun F.
電子技術総合研究所
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金丸 正剛
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
著作論文
- 表面プラズモン励起による光電変換素子の光電流増大
- 1B01 磁場誘起トルク測定によるアンカリング強度の普遍測定
- 走査型マクスウェル応力顕微鏡を用いたエミッタ材料の評価
- 超高真空マクスウエル応力顕微鏡によるエミッタ材料の評価
- 1T28 走査型マックスウエル顕微鏡を用いた光誘起表面電位変化の検出
- 走査型マクスウェル応力顕微鏡による有機薄膜の局所的電気力のイメージング
- ヘテロダイン力検出法に基づく走査型マクスウェル応力顕微鏡の高分解能化 - 機械電気混変調法 -
- 走査型マクスウェル応力顕微鏡による表面の電気的イメージング
- 走査型マクスウェル応力顕微鏡(SMM) : ナノ構造デバイス・材料の電気物性評価に向けて
- ERATO横山液晶微界面プロジェクト
- アンカリング強度測定の原理と実際 : 強電場法を中心に
- 液晶の界面配向
- 液晶界面アンカリングの熱力学
- 走査型マクスウェル応力顕微鏡による有機薄膜における電気像のナノメータースケールイメージング
- 25p-R-3 液晶表面の曲率弾性定数の分子論
- 2A04 簡単化された強電場法 : アンカリング強度の2次元マッピングへの展開
- デュアルプローブ近接場光学顕微鏡
- 微小2分子膜を用いたマイクロ化学デバイス
- 有機薄膜の複素屈折率と光吸収
- メロシアニンLB膜における過度光電流特性
- 1C19 液晶相転移におけるサイズ効果 : 液晶・基板相互作用の観点から
- 3A09 表面曲率弾性と高次点欠陥の安定性
- 液晶を用いた光イメージング
- 分子エレクトロニクスが面白い!
- 3AA01 ネマティック液晶の光誘起配向変化とフレデリックス転移
- 28p-WF-1 2次元液晶:相転移、弾性、パターン形性
- 1A01 光誘起配向変化の現象論
- ラングミュア膜における二次元液晶相