小川 浩二 | ソニー(株)
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概要
関連著者
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山本 亮
ソニー(株)
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斎藤 正樹
ソニー(株)
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門村 新吾
ソニー
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若林 整
NEC
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若林 整
NEC(株)システムデバイス研究所
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若林 整
NECラボラトリーズシステムデバイス・基礎研究本部シリコンシステム研究所
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山本 雄一
ソニー(株)
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長島 直樹
ソニー株式会社
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黛 哲
ソニー(株)
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王 俊利
ソニー(株)
著作論文
- ダマシンゲートプロセスを用いた Top-Cut デュアルストレスライナーを有する高性能 Metal/High-k Gate MOSFETs
- ダマシンゲートプロセスを用いたtop-cutデュアルストレスライナーを有する高性能Metal/High-k Gate MOSFET(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))