若林 和也 | 東京工業大学

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概要

• 若林 和也の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 東京工業大学の論文著者

関連著者

• 古屋 一仁

  東京工業大学院理工学研究科

• 金澤 徹

  東京工業大学

• 若林 和也

  東京工業大学

• 齋藤 尚史

  東京工業大学

• 寺尾 良輔

  東京工業大学

• 田島 智宣

  東京工業大学

• 池田 俊介

  東京工業大学

• 宮本 恭幸

  東京工業大学

• 古屋 一仁

  東京工業大学

• 古屋 一仁

  東工大工

• 寺尾 良輔

  東京工業大学理工学研究科電子物理工学専攻

• 池田 俊介

  東京工業大学理工学研究科電子物理工学専攻

• Saito Hisashi

  Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology, O-okayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8552, Japan

• 池田 俊介

  東京工業大学大学院理工学研究科

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著作論文

• Al2O3ゲート絶縁膜を用いたInP/InGaAsコンポジットチャネルMOSFET (電子デバイス)
• III-V族サブミクロンチャネルを有する高移動度MOSFET
• Al_2O_3ゲート絶縁膜を用いたInP/InGaAsコンポジットチャネルMOSFET(化合物半導体デバイス及び超高周波デバイス/一般)
• Al_2O_3ゲート絶縁膜を用いたInP/InGaAsコンポジットチャネルMOSFET(化合物半導体デバイス及び超高周波デバイス/一般)
• Al_2O_3ゲート絶縁膜を用いたInP/InGaAsコンポジットチャネルMOSFET
• Al_2O_3ゲート絶縁膜を用いたInP/InGaAsコンポジットチャネルMOSFET

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