対向ターゲット式DCスパッタリング法により作製した強磁性Fe3Si/半導体FeSi2積層膜の磁気特性

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概要

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• 福岡工業大学エレクトロニクス研究所の論文

著者

• 梶原 寿了

  福岡工業大学工学部電気工学科

• 吉武 剛

  九州大学

• 吉武 剛

  九州大学大学院総合理工学研究院

• 吉武 剛

  九大 大学院総合理工学研究院

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