次世代極薄ゲートシリコン酸窒化膜の実現
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概要
著者
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松下 大介
東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー
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村岡 浩一
東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー
-
村岡 浩一
(株)東芝 研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー
-
加藤 弘一
(株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー
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