有機金属イオンビーム法によるシリコン基板上への3C-SiC薄膜の低温ヘテロエピタキシャル成長
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概要
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- イオン注入表層処理研究会の論文
- 2001-11-30
著者
-
松本 貴士
産業技術総合研究所環境化学技術研究部門
-
木内 正人
産業技術総合研究所環境化学技術研究部門
-
木内 正人
産業技術総合研
-
杉本 敏司
大阪大学大学院工学研究科附属原子分子イオン制御理工学センター
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