スイッチング用イグナイトロンの過渡的電気特性
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- XeClエキシマレーザ励起放電におけるアーク移行と金属スペクトルの発生
- ハイパワーパルススパッタ(HPPS)グロー放電プラズマの放電開始特性
- ZnOナノストラクチャーの化学的堆積について
- シャンティングアークによる成膜プロセス
- 間欠誘電体バリア放電によるNOxガスの高効率直接脱硝
- 放電励起形XeClレ-ザのシミュレ-ションモデルの開発
- 同軸コンデンサによるエキシマレ-ザ装置と出力エネルギ-の相似則に対する一考察
- 計算機シミュレ-ションによるKrFレ-ザ励起放電中の電子スウォ-ムパラメ-タとア-ク形成に関する検討
- 放電励起KrFレ-ザの励起強度と出力エネルギ-の圧力,ギャップ長依存性
- 紫外線予備電離HCl/He,Xe/He混合気体放電の電流特性--放電励起XeClレ-ザ放電の不安定性に関する基礎的研究
- KrFレ-ザ励起放電中の電子密度の放電の不安定性に与える影響
- 放電励起KrFレ-ザの励起強度と出力エネルギ-のギャップの長さ,圧力依存性
- 放電励起KrFレ-ザの絶縁破壊電圧と励起電流の圧力,ギャップ長依存性
- 低E/N領域の電子付着係数とKrFレ-ザ励起放電の不安定性に関する一考察--対数変換ボルツマン方程式による解析 (電子スウォ-ム)
- 放電励起・希ガス・ハライド・エキシマ・レ-ザの基礎的ガス・キネティクスとパワ-・カップリング・シミュレ-ション
- 正バイアス電極を持つ間欠ジルコニウムPBII&D法による酸化ジルコニウム膜生成
- PBII&D法によるRFスパッタを用いたカーボン膜およびタングステンカーボン膜生成
- NOxガスの間欠誘電体バリア放電による高効率直接分解
- イオン注入・堆積プロセスとその応用 (特集 プラズマ科学の開発と応用)
- プラズマイオン注入における高密度プラズマ生成技術
- 10kHz-100kHzにおけるAC型PDP無声放電の電気的特性
- Xe_2エキシマランプにおける無声放電の電気的特性及び発光特性
- 沿面無声放電による真空紫外光強度の増強に関する研究
- Xe/He, Xe/Ne, Xe/Ar, Xe/Kr混合ガスにおける真空紫外エキシマ光の発生
- エキシマレーザ放電中の衝撃波やアークに伴う流体力学的現象
- クリプトンフッ素エキシマレーザを想定した予備電離用パルスアーク放電のスペクトル観測
- 希ガスエキシマ励起を目的とした無声放電の電気的特性
- RFバースト炭素系アフターグロー中のプラズマ密度
- RF放電中でのシャンティングプラズマ生成
- CH_4-RFプラズマ中で生成したDLC膜の特性 : 定常波及びバースト波の比較
- PBII法に用いるRFプラズマのイオンシース進展と電流解析
- バーストRFプラズマにおけるイオン電流解析
- PLD法によるダイヤモンド状炭素薄膜の合成
- シャンティングアークを用いた複合プラズマにおける分光特性
- シャンティングアークによりトリガされた正バイアス電極に発生する誘起プラズマ特性
- "極限"に向かうレ-ザ技術
- 三次元形状物への高エネルギーイオン注入
- 3次元イオン注入用高電圧パルスモデュレータ電源装置の開発 : 2A/100kV/2000pps
- 放電励起KrFエキシマレーザ励起放電のアーク移行特性
- 放電励起形KrFエキシマレーザ励起放電のアーク移行特性
- パルス電源を用いた大気圧プラズマ処理実施例
- パルス電圧を印加したパルスレーザデポジション法によるダイヤモンド状炭素薄膜の合成 (特集 材料プロセッシングの展望)
- プラズマ・イオン注入技術 (小特集 イオン技術の新しい発展)
- 金属線爆発によって発生した衝撃波のエネルギ-
- ナノ秒領域ロゴスキ-コイルの開発
- 金属線の空中爆発に伴うア-ク陽光柱の電界強度
- 金属蒸気及び高温の金属微粒子を含む高圧空気とSF6の絶縁破壊特性
- スイッチング用イグナイトロンの過渡的電気特性
- 紫外線予備電離放電励起形KrFレ-ザの電気的特性
- 銅線の局部溶断による球状衝撃波の発生
- プラズマイオン注入の三次元基材への適用
- シャンティングプラズマの発生と応用
- カーボンシャンテイングアークによる水素フリーDLC膜の作成 (水素フリーDLC膜の作成と応用技術)
- PBII用パルスプラズマ源からのイオン引出しモデル
- 蔵書の宝庫―国立国会図書館関西館
- チタン陰極アークプラズマ中に置かれたトレンチ基材におけるパルス電圧印加に伴うイオンシース挙動およびイオン電流特性
- 中国におけるPBII研究の現状
- パルスプラズマにおける過渡イオンシースについて
- 無声放電励起希ガスエキシマランプの動作解析
- シャンティングアーク放電によるDLC膜の生成
- 間欠ジルコニウムアークを用いたPBII&Dにおけるイオン電流およびイオン密度
- プラズマイオン注入堆積法 : 最近の日本の動向
- PBII&D法によるTiN薄膜の窒素流量および印加電圧依存性
- 3次元イオン注入による表面改質
- プラズマイオン注入調査専門委員会
- 負荷の影響を受けないプラズマイオン注入用モデュレータの特性
- カーボンシャンティングプラズマ生成機構の圧力依存性
- プラズマによるプラスチックフィルムの表面改質 : ポリテトラフルオロエチレンの親水性への改質
- シリコンシャンティングプラズマの生成とアーク移行
- プラズマイオン注入特性に与えるイオンシースの挙動
- シャンティングアークの放電特性及び大面積化への提案
- 期待される窒素系材料
- カーボンシャンティングアークの発生とロッド長の効果
- プラズマイオン注入
- 3.3 プラズマインプランテーション : 3. プラズマプロセス装置におけるプラズマ・表面相互作用(プラズマ・表面相互作用) : 多様なPSI現象
- PBII法に用いる誘導結合型プラズマ源の諸特性
- 低気圧中におかれた金属線の加熱によるシャンティングアークの発生=パルス金属イオン源の基礎研究=
- ニオブ酸リチウムのレーザアブレーションプルーム観測
- エキシマレーザトリガによるキセノンプラズマの分光観測
- KrFレーザにおける紫外線予備電離電子密度のガス分圧率依存性
- 30a-T-10 金属線爆発の溶断現象
- 水中タングステン線爆発の溶断特性
- 水中金属線爆発による密閉形容器中の気ほう
- Metal Ionization in a High-Power Pulsed Sputtering (HPPS) Penning Discharge
- 内部電極が挿入された対向電極型大電力パルススパッタプラズマの電気的特性
- A new approach of high-power pulsed glow-plasma generation : shunting glow plasma
- シャンティングアークプラズマの半導体制御及びダブルプローブ計測
- 内部電極が挿入された対向電極型大電力パルススパッタ放電におけるイオン電流の圧力依存性