クラスタ-イオンビ-ム (重粒子ビ-ム発生・利用技術(技術ノ-ト))
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- マルチビーム薄膜形成装置の開発
- イオンビーム技術の過去・現在・未来
- デカボランイオン注入による損傷の形成とその増速拡散への影響
- イオン衝突によるシリコン表面欠陥の高温STM観察
- クラスターイオン注入とデバイスプロセス
- ガスクラスタイオンビームの生成と応用
- ガスクラスターイオンビームによる表面エッチング
- ガスクラスターイオンビームプロセッシング
- ガスクラスタ-イオンビ-ムによる固体表面プロセス
- クラスターイオンの非線形効果(原子核とマイクロクラスターの類似性と異質性)
- クラスターイオンの非線形効果(原子核とマイクロララスターの類似性と異質性,研究会報告)
- 分子動力学法によるホウ素クラスターイオン注入のシミュレーション
- ガスクラスターイオンビームによるSiC表面平坦化
- ガスクラスターイオンビーム:その生成と応用
- ガスクラスターイオンビームによるナノスケール表面プロセス
- 50 keVでリンイオンを注入した放射線治療用シリカガラスの性質
- ガスクラスターイオンの表面衝突(原子核とマイクロクラスターの類似性と異質性,研究会報告)
- 31p-PSB-6 クラスターイオンの表面散乱
- 1)ヘリックスを主体とした進行波偏向系の一考察(III)(第31回 テレビジョン電子装置研究委員会)
- 1)ヘリックスを主体とした進行波偏向系の一考察(II)(第27回 テレビジョン電子装置研究委員会)
- 2) 進行波偏向系の偏向特性に関する一解析法(第12回 テレビジョン電子装置研究委員会)
- 1) 誘電体を装荷した進行波偏向系の解析(第12回 テレビジョン電子装置研究委員会)
- 2)進行波偏向系の一解析法(第8回テレビジョン電子装置研究委員会)
- ポリアトミッククラスターイオン注入による浅い接合形成
- 200kVArガスクラスターイオンビームによる浅い注入層の形成
- イオンビームを援用した交互蒸着重合法によるポリイミド薄膜の分子配向制御
- ガスクラスターイオンビームによるナノスケール表面プロセス
- ガスクラスターイオンの表面衝突(原子核とマイクロクラスターの類似性と異質性,研究会報告)
- 銀イオンを注入したSiO_2フィラーの抗菌性
- ICBによるエピタキシャルAl/Al_2O_3積層構造の形成と応用
- ICBによるSi基板上のエピタキシャルAl/Al_2O_3積層構造の共鳴トンネルデバイスへの検討
- 1)超広帯域観測用ブラウン管 : 電子管委資料第270号(第84回テレビジョン用電子管研究委員会 : 41.1.27,NHK青山荘)
- 4)クラスタイオンビーム技術とその応用(テレビジョン電子装置研究会(第125回))
- 1)ヘリックスを主体とした大進行波偏向系の一考察(第23回 テレビジョン電子装置研究委員会)
- ガスクラスターイオンビームを用いた半導体表面処理技術の開発
- サマリー・アブストラクト
- クラスタ-イオンビ-ムによる表面プロセス (マイクロクラスタ-科学の新展開) -- (クラスタ-の反応)
- イオンビームの半世紀をみる
- クラスタイオンビーム蒸着法によるInSbおよびGaAs薄膜の作製
- ガスクラスタ-イオンビ-ムによる材料創製--巨大原子集団からなるイオンビ-ム発生装置と表面プロセス技術
- 反応性クラスターイオンビームによるエッチング
- 29p-PSB-30 クラスターイオンによるスパッタリング
- ガスクラスタ-イオンビ-ム技術
- イオンビ-ム,物質革命物語-2-イオンビ-ム装置の展開
- イオンビ-ム,物質革命物語-4-夢の新材料を求めて,表面高機能化技術
- イオンビ-ム,物質革命物語-3-イオン注入の潜在能力を引き出せ
- 現代の錬金術「イオンビ-ム,物質革命物語」-5-イオンビ-ム技術のゆくえ
- 光技術のフロンティア--京都大学工学部付属イオン工学実験施設
- イオンビ-ムによる材料創製 (新錬金術) -- (材料創製編)
- クラスタ-イオンビ-ム (重粒子ビ-ム発生・利用技術(技術ノ-ト))
- 薄膜形成技術とその応用 (イオン工学--新物質創成・高機能素子開発を目指して)
- イオンビ-ムによる薄膜形成 (イオンビ-ムの応用)
- イオン工学的薄膜形成技術 (イオン技術)
- イオンの効果を利用したデポジション (半導体ビ-ムプロセス技術) -- (デポジション)