スパッタ率測定へのマイクロバランスの応用II

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概要

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• A torsion microbalance having the sensitivity of 4.5 × 10<SUP>-7</SUP> g/div. has been constructed and applied for the measurement of sputtering yield of a polycrystalline niobium sample for Art-ion irradiation in the energy region from 0.32.5 keV. In the sputtering experiment, the ion beam currents from 0.3 to 1.6 μA were used and the incident angle of the beam was normal to the Nb plate. The measured yields have compared with other results. Although the microbalance has sufficient performance on application for sputtering yield measurement, it is essential to use ion beam current more than 100 μA for the measurement of lower sputtering yield than unity.

• 日本真空協会の論文

著者

• 宮原 昭

  名古屋大学プラズマ研究所

• 壁谷 善三郎

  名大プラズマ研

• 赤石 憲也

  名古屋大学プラズマ研究所

• 壁谷 善三郎

  名古屋大学工学部

• 後藤 哲二

  学習院大学理学部

• 壁谷 善三郎

  名古屋大学プラズマ研究所

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