マイクロ波励起酸素プラブマによるSi上のAl膜の酸化
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概要
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The oxidation of evaporated Al thin films on Si (100) was studied by microwave excited oxygen plasma. The effect of oxidation conditions, including the substrate temperature and the substrate-cathode spacing, on the structual characteristics of films was examined. Under an appropriate substrate temperature, amorphous and insulating films were formed.
- 日本真空協会の論文
著者
-
丹生 博彦
姫路工業大学大学院工学研究科電気系工学専攻
-
松田 哲郎
姫路工業大学
-
高井 宗三
姫路工業大学工学部電気工学教室
-
丹生 博彦
姫路工大工
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丹生 博彦
姫路工大
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高井 宗三
姫路工業大学
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高井 宗三
姫路工大
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丹生 博彦
姫路工業大学電子工学教室
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高井 宗三
姫路工業大学電子工学教室
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松田 哲郎
姫路工業大学電子工学教室
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