マグネトロンスパッタリング法により作製した傾斜機能亜酸化ケイ素膜の放射冷却特性
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概要
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Silicon suboxide (SiOx) could be a potential material for radiative cooling due to appropriate infra-red absorption at wave-length (λ) between 8 and 13 μm. In this study, SiOx films ranging from x=0.98 to 1.7 were prepared by magnetron sputtering using a SiO sintered body target. An SiO0.98 single layer film had a relatively sharp absorption peak at λ=10 μm. The obtained SiO0.98 film showed amorphous and a black-brown color. An optical band gap (Eg) of the SiO0.98 film was 3.6 eV, and the SiOx (x>1.4) film was transparent in the UV-visible range with a wide optical band gap (>4 eV). A functionally graded SiOx layers showed broader absorption from λ=8 to 13 μm, promising for radiative cooling.
- 2005-11-15
著者
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