イオン液体BMIM-PF_6イオンビーム照射によるガラス基板の表面改質(シリコン関連材料の作製と評価)
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概要
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イオン液体は常温で液体のイオン性化合物であり,1数百 mS/cm 程度の高い導電性を有し,蒸気圧は極めて低いため,近年注目されている溶媒材料である.本研究では炭素チップを用いたイオン液体イオン源を開発し,イオン液体 BMIM-PF_6 イオンビーム照射によるホウケイ酸ガラス基板の表面改質の可能性を検討した.その結果,加速電圧±4 kV,照射量1×10^15ions/cm^2にて,ガラス基板表面の算術平均粗さが低下することを見い出した.
- 2012-11-30
著者
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龍頭 啓充
京都大学工学研究科附属光・電子理工学教育研究センター
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高岡 義寛
京都大学大学院工学研究科附属イオン工学実験施設
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竹内 光明
京都大学大学院工学研究科附属光・電子理工学教育研究センター
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高岡 義寛
京都大学大学院工学研究科附属光・電子理工学教育研究センター
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龍頭 啓充
京都大学大学院工学研究科附属光・電子理工学教育研究センター
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濱口 拓也
京都大学大学院工学研究科附属光・電子理工学教育研究センター
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