エタノールクラスターイオンビームを用いたシリコン基板の微細加工(シリコン関連材料の作製と評価)
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概要
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シリコン基板の微細加工の可能性を調べるために、フォトレジストおよびフォトレジストを塗付しテストパターンを露光したシリコン基板にエタノールクラスターイオンビームを照射して、その照射効果について調べた。エタノールクラスターイオンビーム照射によるシリコン基板とフォトレジストのスパッタリング深さは同程度であることが分かった。また、フォトレジストを塗付し、テストパターンを露光したシリコン基板にエタノールクラスターイオンビームを照射すると、テストパターンの形状を維持してエッチングされることがわかった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2009-11-27
著者
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龍頭 啓充
京都大学工学研究科附属光・電子理工学教育研究センター
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高岡 義寛
京都大学工学部イオン工学実験施設
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向井 寛
京都大学工学研究科附属光・電子理工学教育研究センター
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竹内 光明
京都大学工学研究科附属光・電子理工学教育研究センター
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竹内 光明
京都大学大学院工学研究科附属光・電子理工学教育研究センター
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高岡 義寛
京都大学大学院工学研究科附属光・電子理工学教育研究センター
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