RFマグネトロンスパッタ法によるAZO透明導電膜の作製
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
In this study, the results of the study of thin film deposition conditions of AZO thin film by RF magnetron sputtering method were reported. AZO thin films have been prepared by RF reactive magnetron sputtering with various growth parameters, including number of Al pellets on Zn target, oxygen concentration and substrate temperatures. The resistivity, transmittance and crystal orientation of these films was investigated as a function of various growth parameters and causes of characteristic change were examined. As a result, a minimum resistivity of 4.38×10-4 Ωcm and the average transmittance of 93% in the visible range was obtained for the films deposited at oxygen concentration of 12%, number of Al pellets of 2 and substrate temperature of 350℃.
- 2012-01-31
著者
関連論文
- 4価元素をドープした石英薄膜における可視光スペクトル
- 電気電子工学科2年生を対象としたPBL型学生実験の実施報告
- コンタクトエピによる石英基板上への磁気光学薄膜形成
- 5-223 プロジェクト型実験を活用した学生の得意分野作り : 神奈川工科大学電気電子情報工学科における新しい実験(口頭発表論文,(5)実験・実技-VII)
- ベータ相水晶による高温用精密温度センサの検討(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- ベータ相水晶による高温用精密温度センサの検討(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- ベータ相水晶による高温用精密温度センサの検討(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- ベータ相水晶による高温用精密温度センサの検討(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- C-6-10 Snをドープしたシリカガラス薄膜の光学特性(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- Snをドープしたシリカガラス薄膜の可視発光特性
- β相水晶の圧電特性と温度センサへの応用
- 多元素ドープシリカ薄膜によるルミネセンス(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 多元素ドープシリカ薄膜によるルミネセンス(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 多元素ドープシリカ薄膜によるルミネセンス(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 多元素ドープシリカ薄膜によるルミネセンス(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 超構造薄膜光導波路の形成と特性
- C-6-20 4価元素をドープした石英ガラス薄膜の可視光スペクトル(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- 高温相水晶の共振特性と温度センサへの応用
- 公民館での出前授業実施報告
- Snをドープしたシリカガラス薄膜の可視発光
- 4価元素を添加した石英ガラス薄膜の可視発光スペクトルの検討
- 4価元素をドープした石英ガラス薄膜の圧電性と可視発行
- C-6-4 下地基板の影響を軽減した結晶薄膜の形成法(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- シリカ系超構造薄膜による可視発光と光増幅
- シリカ系超構造薄膜による可視発光と光増幅
- シリカ系超構造薄膜による可視発光と光増幅
- C-6-10 RFマグネトロンスパッタ法によるAZO薄膜の作製(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- C-6-11 下地基板の影響を軽減した酸化物結晶薄膜の形成(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- RFマグネトロンスパッタ法によるAZO透明導電膜の作製
- 下地基板の影響を軽減した結晶薄膜の形成法
- RFマグネトロンスパッタ法によるAZO透明導電膜の作製
- 下地基板の影響を軽減した酸化物結晶薄膜の形成
- C-6-5 ZnO系透明導電膜の作製と評価(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- 高温相水晶の共振特性と温度センサへの応用
- コンタクトエピタキシヤノレ法による酸化物結晶薄膜の形成
- コンタクトエピタキシャル法による酸化物結晶薄膜の形成(酸化物,酸化物エレクトロニクス,一般)
- 機能性石英ガラス薄膜の形成と評価