ウェットプロセスによるナノコーティングと機能制御 : 水系薄膜技術による省エネ推進(有機ナノ材料・構造制御,デバイス応用,一般)
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概要
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真空プロセスを用いずに水系でかつ常温、常圧で製膜できるウェットプロセスとして交互吸着法、スプレー交互吸着法があり、近年研究が活発化している。真空プロセスと比較して製膜中の電力を10分の1に削減できる可能性が高く、東北関東大震災以降の我が国の電力事情から製造プロセスにおける電力削減の1手法として早期の実用化が期待される。表面処理、光学薄膜、透明導電膜等、プラントエンジニアリング、オプティックス、エレクトロニクスへの応用可能性について展望を述べる。
- 2011-07-01
著者
-
白鳥 世明
慶應義塾大学
-
藤本 幸司
慶応義塾大学理工学部
-
藤本 幸司
慶應義塾大学理工学部
-
白鳥(謝) 世明
慶應義塾大学 理工学部
-
白鳥 世明
慶應義塾大学理工学部白鳥研究室
-
白鳥 世明
慶應義塾大学理工学部物理情報工学科
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