US2000-26 / EMD2000-22 / CPM2000-37 / OME2000-32 ウェットプロセス交互積層による誘電体多層膜の形成
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概要
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分子レベルでの薄膜作製技術として注目を集めている交互吸着法は異なった電荷をもつ電解質のポリマー、コロイドなどの溶液に基板を交互に浸すことによって薄膜を成長させる方法である。一方で近年開発された表面ゾルゲル法は今までのゾルゲル法とは異なり、基板表面での金属アルコキシドの重合反応によって薄膜をナノスケールオーダーで逐次積層化を行う方法である。本研究ではチタンブトキシドの化学吸着、リンス、加水分解、乾燥の4行程を自動侵漬装置を用いてQCM上への逐次吸着を試みた。またQCM上に累積させた薄膜をAFMで観察した。さらにポリスチレン基板上に交互吸着膜、酸化チタンゲル膜を交互に積層させ、断面構造をTEMで観察した。
- 2000-06-30
著者
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