22aGQ-12 SiO_2/Si膜中ヘイオン注入されたFeの拡散・反応過程の研究(22aGQ 格子欠陥・ナノ構造(シリコン系材料),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
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- 2011-08-24
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