C-4-16 InP基板上n-i-p-n構造における位相変調効率のストライプ方向依存性(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
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概要
- 論文の詳細を見る
- 2011-08-30
著者
-
佐藤 具就
NTTフォトニクス研究所
-
小木曽 義弘
早稲田大学大学院先進理工学研究科
-
渡邉 啓
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
-
柴田 泰夫
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
-
佐藤 具就
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
-
渡辺 啓
日本電信電話株式会社,NTTフォトニクス研究所
-
渡邊 啓
日本電信電話株式会社フォトニクス研究所
-
神徳 正樹
日本電信電話(株)nttフォトニクス研究
-
渡辺 啓
住友ベークライト
-
小木曽 義弘
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
-
小木曽 義弘
早稲田大学先進理工学研究科
-
佐藤 具就
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所:ナノフォトニクスセンタ
-
神徳 正樹
日本電信電話(株) NTTフォトニクス研究所
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