641 金属界面における転位生成強度に関する分子動力学解析(OS11-2 電子・原子レベルのマルチシミュレーションとその応用)

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概要

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• 一般社団法人日本機械学会の論文
• 2007-10-24

著者

• 泉 聡志

  東京大学大学院工学系研究科

• 酒井 信介

  東大工

• 泉 聡志

  東大工

• 酒井 信介

  東京大学

• 原 祥太郎

  東大

• 熊谷 知久

  東大工

• 原 祥太郎

  東大工

• 熊谷 知久

  東京大学 大学院工学系研究科

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