高周波磁気記録におけるOW特性の計算機シミュレーション(コンピュータシミュレーション及び一般)
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概要
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磁気記録媒体の高周波での保磁力の増大と記録再生特性との関連を計算機シミュレーションにより検討し以下のことが明らかになった。繰り返しパルス磁界印加による逆DC消去法で求めた残留保磁力の短パルス長での上昇は熱ゆらぎが減少する効果に反磁界の増加が重畳されたものである。高周波でのオーバーライト特性は、記録ヘッド磁界の立上り時間に依存し、立上り時間が1ビット相当の時間に対して十分速ければ1GHzでも劣化しない。また、オーバーライトの劣化を防ぐためには、記録周波数が高いほど1ビット相当の時間に対してより短い立上り時間が必要である。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-10-15
著者
-
中村 敦
日立製作所中央研究所ストレージ・テクノロジー研究センタ
-
中村 敦
(株)日立製作所中央研究所
-
五十嵐 万壽和
(株)日立製作所中央研究所
-
池亀 弘
日立製作所中央研究所
-
五十嵐 万壽和
日立製作所中央研究所
-
吉田 和悦
日立製作所中央研究所
-
鈴木 良夫
日立製作所中央研究所
-
高野 公史
日立製作所中央研究所
-
中村 敦
日立製作所中央研究所
-
五十嵐 万壽和
日立製作所・中央研究所
-
高野 公史
(株)日立製作所中央研究所
-
鈴木 良夫
(株)日立製作所中央研究所
-
五十嵐 万壽和
(株)日立製作所 中央研究所
-
吉田 和悦
工学院大学電子工学科
-
中村 敦
日立製作所
-
吉田 和悦
工学院大
-
高野 公史
日立製作所
-
高野 公史
日立
-
鈴木 良夫
日立製作所
-
五十嵐 万壽和
日立製作所
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