Fe-C/Ni-Fe多層膜を用いた単磁極形垂直ヘツドの記録再生特性 : 画像情報記録
スポンサーリンク
概要
著者
-
高野 公史
日立製作所中央研究所
-
小林 俊雄
(株)日立製作所中央研究所
-
椎木 一夫
日立
-
高野 公史
(株)日立グローバルストレージテクノロジーズ技術開発本部
-
椎木 一夫
(株)日立製作所中央研究所
関連論文
- 高周波磁気記録におけるOW特性の計算機シミュレーション(コンピュータシミュレーション及び一般)
- 高周波記録におけるOW特性の計算機シミュレーション
- 電子線トモグラフィーによる記録ヘッド磁界の時間応答測定
- 電子線トモグラフィを用いた磁気ディスク装置用高速記録磁気ヘッドの開発
- 電子線トモグラフィーによる記録ヘッド時間応答の測定
- PRML方式における非線形要因のビットエラーレートへの影響
- PRMLチャネルにおけるMRヘッドの波形非対称性の影響
- Partial ErasureのNLTS測定への影響
- 垂直記録用単磁極型GMRヘッド
- 垂直磁気記録方式における媒体ノイズのモード解析(信号処理および一般)
- 垂直磁気記録方式における媒体ノイズのモード解析
- 垂直磁気記録のための信号処理方式
- 垂直磁気記録のための信号処理方式
- 垂直磁気記録方式における熱減磁を考慮した記録過程の解析
- 垂直磁気記録方式における熱減磁を考慮した記録過程の解析
- 垂直磁気記録方式における記録再生・熱減磁特性予測
- 磁気記録媒体の高速反転特性の検討
- 垂直磁気記録媒体のマイクロマグネティクスシミュレーション
- シミュレーションによる高速磁気記録の検討 : 最適書込み磁界の記録周波数依存性
- Partial Erasureを考慮した媒体雑音の検討
- オーバーライト特性の計算機シミュレーション
- 9.進化するハードディスク(大容量化が進むストレージ技術)
- 40 Gb/in^2を超える面内磁気記録再生特性に関する検討
- 面内記録における高TPI対応設計手法の開発と高密度化の実現
- 面内記録における高TPI対応設計手法の開発と高密度化の実現
- 面内磁気記録における40Gb/in^2の検討
- 記録再生特性に及ぼす磁化反転パラメータの影響
- 尿素触媒法で高圧合成した立方晶窯化ホウ素の粒度分布
- マイクロマグネティックスシミュレーションを用いた磁気記録過程に関する検討
- マイクロマグネティックスシミュレーションを用いた磁気記録過程に関する検討(コンピュータシミュレーション及び一般)
- 垂直磁気記録対応DC-freeサーボパターンの解析
- 垂直磁気記録方式における記録再生・熱減磁特性予測
- 2)単磁極型薄膜磁気ヘッドの高周波磁化状態(画像情報記録研究会)
- 単磁極型薄膜磁気ヘッドの高周波磁化状態 : 画像記録情報
- 垂直磁気記録における磁化転移幅解析モデル
- 垂直磁気記録方式を利用した磁気ディスク装置の特長と大容量化に対するポテンシャル
- 垂直磁気記録方式を利用した磁気ディスク装置
- 垂直磁気記録方式を利用した磁気ディスク装置(ハードディスクドライブ及び一般)
- 垂直磁気記録の実用化に向けての検討
- 垂直磁気記録ハードディスクの実用化技術の開発
- 垂直磁気記録用ヘッド
- 8)磁性膜の磁区構造シミュレーション(画像情報記録研究会)
- 磁性膜の磁区構造シミュレーション : 画像情報記録
- Fe-C/Ni-Fe多層膜を用いた単磁極形垂直ヘツドの記録再生特性 : 画像情報記録