Influence of DC Biasing on the Formation of Hydrogenated Amorphous Carbon Films Using a Plasma-Based Ion Implantation Technique
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 2002-10-15
著者
-
高井 治
名大 理工総研
-
高井 治
名古屋大学
-
Koga Y
National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology (aist)
-
Takai Osamu
Center For Integrated Research In Science And Engineering Nagoya University
-
Koga Y
Department Of Physics Kurume University
-
Watanabe Toshiya
Japan Fine Ceramics Center Joint Research Consortium Of Frontier Carbon Technology C-o Research Cent
-
Koga Yoshinori
Research Center For Advanced Carbon Materials Aist
-
YAMAMOTO Kazuhiro
Research Center for Advanced Carbon Materials, AIST
-
TSUDA Osamu
Japan Fine Ceramics Center, Joint Research Consortium of Frontier Carbon Technology, c-o Research Ce
-
TANAKA Akihiro
Research Center for Advanced Carbon Materials, AIST
-
Yamamoto Kensuke
Department Of Electrical Engineering. Osaha University
-
Takai Osamu
The Department Of Materials Processing Engineering Graduate School Of Engineering Nagoya University
-
Tsuda Osamu
Japan Fine Ceramics Center Joint Research Consortium Of Frontier Carbon Technology C-o Research Cent
-
Tanaka Akihiro
National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology (aist)
-
Yamamoto Kazuhiro
Research Center For Advanced Carbon Materials Aist
-
Tanaka Akihiro
Research Center For Advanced Carbon Materials Aist
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