ポリマー基板への酸化シリコン薄膜の光化学的低温形成
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概要
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- 2002-06-01
著者
-
穂積 篤
(独)産業技術総合研究所 中部センター
-
高井 治
名古屋大学大学院工学研究科
-
高井 治
名古屋大 大学院工学研究科
-
高井 治
名大 理工総研
-
高井 治
名古屋大学
-
杉村 博之
京都大学
-
杉村 博之
名古屋大学大学院 工学研究科
-
林 和幸
Nagoya University
-
林 和幸
名古屋大学大学院 工学研究科
-
穂積 篤
産業技術総合研究所
-
桝田 智子
中部大学 工学部
-
魚江 康輔
中部大学 工学部
-
横川 善之
産業技術総合研究所
-
亀山 哲也
産業技術総合研究所
-
魚江 康輔
中部大学工学部応用化学科
-
横川 善之
National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology
-
横川 善之
産業技術総合研
-
亀山 哲也
名古屋工業大学都市循環システム工学科:産業技術総合研究所
-
杉村 博之
京都大学大学院工学研究科材料工学専攻
-
穂積 篤
産業技術総合研 中部セ
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