自己組織化リン酸ジルコニウム薄膜の防食への応用
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2002-12-01
著者
-
高井 治
名古屋大学大学院工学研究科
-
高井 治
名古屋大 大学院工学研究科
-
高井 治
名大 理工総研
-
高井 治
名古屋大学
-
蓬原 正伸
日本ペイント(株)サーフ事業部 防錆材料技術部
-
杉村 博之
京都大学
-
杉村 博之
名古屋大学大学院 工学研究科
-
志田 あづさ
横浜市工業技術支援センター
-
杉村 博之
名古屋大学大学院工学研究科材料プロセス工学専攻
-
杉村 博之
京都大学大学院工学研究科材料工学専攻
関連論文
- 衛生陶器の抗菌釉薬に添加された銀の存在状態
- CVDダイヤモンド膜 -窒化ケイ素基板の密着性に及ぼすDLC中間層の効果
- 低融点はんだ-高分子混合系における巨視的自己形成プロセスの解析
- 超はっ水表面の作製法とその応用 (特集 固液界面の物理)
- 反応性プラズマ中の斜め堆積による微絨毛構造状窒化物薄膜の形成
- バイオミメティック材料プロセッシングの開発
- バイオミメティック超撥水・超親水性表面 (特集 先端産業分野における表面処理および界面技術)
- 3.水中プラズマによる材料(無機)プロセス(水中プラズマが拓く新しい無機・有機・バイオプロセス)
- 自己組織化の構造と機能
- バイオチップ開発のためのプラズマアクティベーション (特集 プラズマが拓く新技術)
- ソリューションプラズマ材料プロセッシング
- 名古屋大学大学院工学研究科マテリアル理工学専攻材料工学分野生体機能材料工学講座ナノ集積工学グループ高井研究室(研究室訪問)
- 19pRE-5 高電荷密度高分子電解質ブラシにおけるζ電位の添加塩濃度依存性(高分子,領域12,ソフトマター物理,化学物理,生物物理)
- 静電場ゆらぎを有する表面上でのフィブリノゲンの吸着挙動
- 表面ナノテクノロジーを利用したバイオインターフェース
- 斜め堆積スパッタ法により作製したInN薄膜のエレクトロクロミック現象の応答特性
- バイオミメティックプロセシングを用いた材料創製
- バイオミメティックナノテクノロジー (特集 新しいナノテクノロジーの展望)
- 科学解説 ダイヤモンド表面の有機修飾による機能化と集積化
- ナノプローブを利用した表面電位メモリ (特集 分子レベル制御による高機能表界面の構築)
- 超薄膜生成技術による生体組織細胞培養テンプレート (特集 ナノテク・MEMSで進化する細胞培養・マニピュレーション)
- IUVSTA Scientific and Technical Divisions (STD) の報告
- バイオミメティック材料プロセシングの開発(第56回日本歯科理工学会学術講演会)
- イオン化蒸着法にすリ作製したDLC薄膜のナノインデンテーション硬さと構造に及ぼす成膜条件の影響
- Sn-Biはんだ-シリコーン高分子混合系における自己形成プロセスの解析
- 超はっ水表面の作製法とその応用
- プラズマ環境における動的斜め堆積法
- 平板型高分子電解質ブラシ表面におけるフィブリノゲン捕捉挙動
- ソリューションプラズマ表面修飾を用いたナノカーボン分散コンポジット材料の作製
- 超はっ水・超親水技術の進展
- バイオミメティックナノテクノロジー
- バイオミメティック超親水・超はっ水性薄膜
- 自己組織化材料の創製と応用 : 自然に学ぶものづくり
- 非経験的分子軌道法支援によるアモルファス窒化炭素膜の化学結合状態解析 : X線光電子スペクトルの解釈
- ポリエチレンテレフタレート基板上でのプラズマCVDシリカ膜の成長様式
- 29pA21P TMMOS+CO_2プラズマCVD法による透明な超はっ水薄膜の機械特性の評価(プラズマ基礎・応用)
- 8 低温プラズマプロセス中の有機シリコン分子の挙動(プラズマの基礎・応用研究最前線(中部地区若手・中堅研究者の挑戦))
- 4. プラズマCVDにおける薄膜堆積過程 (プラズマCVDの基礎)
- インターネットを利用した文献検索
- 走査型プローブ顕微鏡を用いた局所空間化学反応の制御
- 自己組織化単分子膜を利用した選択的無電解めっきによる金属パターンの作製とポリマー上への転写
- 視点--潤う 自己組織化単分子膜による潤滑特性の精密制御
- 走査型プロｰブ顕微鏡を用いたダイレクトメタルドロｰイング法によるAuナノ細線の作製
- ナノテク部会
- ポリエチレンテレフタレート基板上に成膜されたプラズマCVDシリカ膜のガスバリア性
- 液相析出法による酸化スズ薄膜の形成
- マイクロ波プラズマCVD法により作製した疎水性微細凹凸構造薄膜の化学センサーへの応用
- 無機酸化物表面への有機分子膜形成とその表面物性
- 生体分子固定化に向けた有機単分子膜の作製と微細構造化
- 窒化炭素の化学結合状態と特性(硬質材料の創製とその応用)
- フェニルアセチレンと水素終端化シリコンとの表面化学反応による有機単分子膜形成
- 自己組織化リン酸ジルコニウム薄膜の防食への応用
- ポリマー基板への酸化シリコン薄膜の光化学的低温形成
- SC-9-7 アミノ末端を有するシラン系自己組織化単分子膜のマイクロファブリケーション
- 真空紫外光照射によるポリスチレンフィルムの親水化
- アークイオンプレーティングによって作製した非晶質窒化炭素薄膜の耐摩耗性
- プラズマによる薄膜たい積と表面改質
- ナノインデンテーション法による極薄膜の硬さ評価
- 単分子膜レジストとウエットプロセスによる微細加工
- アルミニウム合金表面への有機シラン単分子膜被覆:エポシキ塗料ブライマーへの応用
- 1. はじめに (プラズマCVDの基礎)
- 耐摩耗性薄膜のナノインデンテーション
- 単分子膜リソグラフィと選択無電解めっきによる金微細構造の作製
- CN_x 材料とその機械的性質
- 疎水/親水マイクロ領域からなる不均一表面上の微小水滴
- 親水/疎水基板へのメゾポーラスシリカ膜の成長
- マイクロ波プラズマCVD法による傾斜機能皮膜の作製 -酸化シリコン皮膜の表面はっ水化-
- 表面制御された超はっ水性皮膜のマイクロ波プラズマCVD法による作製
- 逆さにみれば
- スパッタリングによる表面改質
- シールド型アークイオンプレーティングによる硬質窒化炭素薄膜の作製
- 窒化物系薄膜の作製と物性
- エレクトロクロミック膜の構造と性能
- 透明高はっ水性皮膜の低温形成 -透明プラスチック基板への応用-
- 新超硬材料としての窒化炭素薄膜合成 -ダイヤモンドより硬い材料は可能か-
- PVDおよびCVDによる最近のセラミックコーティング
- 自己復元性を有する生体インタフェース材料の電気・機械的評価
- イオン化蒸着法によるシリコン化合物系傾斜組成薄膜の形成と DLC 中間層への適用
- プラズマ滅菌に於けるプラズマ源の装置と特徴について
- Ni-Cr 系酸化物薄膜の微細構造に及ぼす酸素添加の影響
- WANTS-NEEDS-SEEDS 植物由来の普通紙にはっ水性と抗菌性を付与する処理技術の開発
- バイオミメティック材料プロセシング : バイオミメティック材料工学序論
- 気相めっき
- ドライプロセス法による透明超はっ水薄膜の作製と応用
- 二段階プラズマプロセスによる超はっ水高分子基板の作製
- 強磁性トンネル接合Fe/CeO_2/Fe-Coの磁気抵抗効果とXPS観察
- 最近の研究 生体分子固定化に向けた有機単分子膜の作製と微細構造化
- センサ情報の精度がGIS/GCB保守のCBM化に与える影響
- 表面工学国際会議(FSE 2001)
- アルゼンチンと韓国
- ナノテクノロジーと表面技術
- GIS/GCB絶縁ガス中の水分検出センサに関する研究 : —トリエチレンジアミン硫酸塩固体電解質センサの基礎特性—
- プラズマCVD法による超はっ水薄膜の形成と応用 (特集 超はっ水・超親水表面)
- 表面はどこまでわかったか
- 二段階マイクロ波プラズマCVDによるタングステン線へのダイヤモンドの核生成促進と密着性
- ソリューションプラズマによる水中菌の殺菌
- GIS/GCB絶縁ガス中の水分検出センサに関する研究 : トリエチレンジアミン硫酸塩固体電解質センサの基礎特性
- Sn-Bi合金粒子-シリコーン高分子混合系の自己形成プロセス : 高分子粘性がマイクロバンプの形成に及ぼす影響
- 自己復元性を有する生体インタフェース材料の検討 : 基材表面処理が配線形成に及ぼす影響
- 表面はどこまでわかったか(ヘッドライン:悪魔が創った表面)