斜め堆積スパッタ法により作製したInN薄膜のエレクトロクロミック現象の応答特性
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概要
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- 社団法人表面技術協会の論文
- 2006-06-01
著者
-
齋藤 永宏
名古屋大学大学院工学研究科
-
高井 治
名古屋大学大学院工学研究科
-
高井 治
名古屋大 大学院工学研究科
-
高井 治
名大 理工総研
-
高井 治
名古屋大学
-
井上 泰志
名古屋大学エコトピア科学研究所
-
山崎 純一
名古屋大学 大学院工学研究科
-
倉永 知英
名古屋大学 大学院工学研究科
-
鷹羽 秀隆
名古屋大学 工学部
-
齋藤 永宏
名古屋大学 エコトピア科学研究所
-
齋藤 永宏
名古屋大学
-
井上 秦志
名古屋大学
-
高井 治
名古屋大学エコトピア科学研究所
-
井上 泰志
名古屋大学 エコトピア科学研究所
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