Highly Transparent and Conductive Zn_2In_2O_5 Thin Films Prepared by RF Magnetron Sputtering
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1995-08-01
著者
-
高田 新三
金沢工業大学
-
Sato Hisao
Nitride Semiconductor Co. Ltd.
-
Minami T
Department Of Applied Materials Science Graduate School Of Engineering Osaka Prefecture University
-
Sato H
Research And Development Center Gunze Limited
-
Sato Hiroyasu
Faculty Of Engineering Mie University
-
Sato Hiroharu
Multimedia Eng. Lab.
-
Sato H
Univ. Tokushima Tokushima Jpn
-
MINAMI Tadatsugu
Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology
-
SONOHARA Hideo
Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology
-
TAKATA Shinzo
Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology
-
Takata Shinzo
Electron Device System Laboratory Kanazawa Institute Of Technology
-
Sato H
Department Of Applied Chemistry Faculty Of Engineering Kumamoto University
-
SATO Hisano
Wireless Research Laboratory, Matsushita Elec. Ind., Co.
-
KAKUMU Toshikazu
Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology
-
Miyata Takeo
Electron Device System Laboratory Kanazawa Institute Of Technology
-
Minami Tadatsugu
Electron Device System Laboratory Kanazawa Institute Of Technology
-
Kakumu Toshikazu
Electron Device System Laboratory Kanazawa Institute Of Technology
-
Sunagawa Hiromi
Department Of Applied Physics Faculty Of Engineering Tohoku University
-
Sato Hisao
Department of Applied Physics, Graduate School of Engineering, Tohoku University
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