高田 新三 | 金沢工業大学

スポンサーリンク

概要

• 高田 新三の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 金沢工業大学の論文著者

関連著者

• 高田 新三

  金沢工業大学

• 花岡 良一

  金沢工業大学

• 深見 正

  金沢工業大学

• 高田 新三

  金沢工業大学電気電子工学科

• 花岡 良一

  金沢工大

• MINAMI Tadatsugu

  Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology

• TAKATA Shinzo

  Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology

• Takata Shinzo

  Electron Device System Laboratory Kanazawa Institute Of Technology

• Minami Tadatsugu

  Electron Device System Laboratory Kanazawa Institute Of Technology

• Miyata Takeo

  Electron Device System Laboratory Kanazawa Institute Of Technology

• 宮本 紀男

  金沢工業大学

• Miyata T

  Optoelectronic Device System R&d Center Kanazawa Institute Of Technology

• 花岡 良一

  金沢工業大学工学部電気電子工学科

• Minami T

  Department Of Applied Materials Science Graduate School Of Engineering Osaka Prefecture University

• 南 内嗣

  金沢工業大学光電相互変換デバイスシステム研究開発センター

• 高田 新三

  金沢工大

• 島 和男

  金沢工業大学 工学部

• 高田 新三

  金沢工業大学 電子デパイスシ

• 南 内嗣

  金沢工業大学 光電相互変換デバイスシステム研究開発センター

• 島 和男

  金沢工業大学

• 宮本 紀男

  金沢工業大学工学部

• 西 敏行

  富山工業高等専門学校

• 安齊 秀伸

  藤倉化成(株)

• Sato Hisao

  Nitride Semiconductor Co. Ltd.

• Sato H

  Research And Development Center Gunze Limited

• Sato Hiroyasu

  Faculty Of Engineering Mie University

• Sato Hiroharu

  Multimedia Eng. Lab.

• Sato H

  Department Of Applied Chemistry Faculty Of Engineering Kumamoto University

• Sato Hisao

  Department of Applied Physics, Graduate School of Engineering, Tohoku University

• 宮田 俊弘

  金沢工業大学光電相互変換デバイスシステム研究開発センター

• 宮田 俊弘

  金沢工業大学 光電相互変換デバイスシステム研究開発センター

• SATO Hirotoshi

  Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology

• MIYATA Toshihiro

  Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology

• Miyata Toshihiro

  Electron Device System Laboratory Kanazawa Institute Of Technology

• 宮田 俊弘

  金沢工業大学

• 桜井 宏治

  藤倉化成

• 櫻井 宏治

  藤倉化成(株)

• 深見 正

  金沢工大

• 桜井 宏治

  藤倉化成(株)

• 安齋 秀伸

  藤倉化成

• 村雲 正敏

  金沢工大

• 松井 康浩

  金沢工業大学

• 中道 裕之

  金沢工業大学 光電磁場科学応用研究所

• 宮本 紀男

  金沢工大

• 松井 康浩

  金沢工業大学 電気系

• 中道 裕之

  金沢工業大学電気系

• NANTO Hidehito

  Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology

• Nanto Hidehito

  Electron Device System Laboratory Kanazawa Institute Of Technology

• 横井 雅

  金沢工業大学

• 松内 弘太郎

  金沢工業大学電気系

• 直江 伸至

  金沢工業高等専門学校電気情報工学科

• 中川 健一

  金沢工大

• 横井 雅

  金沢工業大学 光電磁場科学応用研究所

• 直江 伸至

  金沢工業高等専門学校

• 黒井 芳啓

  金沢工業大学電子デバイスシステム研究所

• 直江 伸至

  金沢工業高等専門学校電気工学科

• SONOHARA Hideo

  Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology

• Sunagawa Hiromi

  Department Of Applied Physics Faculty Of Engineering Tohoku University

• 碓氷 拓郎

  金沢工業大学電気電子工学科

• 黒井 芳啓

  金沢工業大学 電子デパイスシステム研究所

• 直江 伸至

  金沢工業高等専門学校電気電子工学科

• 南 内嗣

  金沢工業大学

• 中澤 優一

  金沢工大

• 中澤 優一

  金沢工業大学

• 安齋 秀伸

  藤倉化成(株)

• 村雲 正敏

  金沢工業大学

• 金丸 保典

  金沢工業大学

• 細井 龍哉

  金沢工業大学

• 渡部 宏也

  金沢工業大学

• 早水 孝仁

  金沢工業大学 電気系

• 川崎 恒一

  金沢工業大学光電磁場科学応用研究所

• 柿本 昭博

  金沢工業大学

• 清水 文吾

  金沢工業大学 電気系

• 中川 健一

  金沢工業大学

• 松内 弘太郎

  金沢工大

• 直江 伸至

  金沢高専

• 山田 寛之

  金沢工業大学電子デバイスシステム研究所

• 山田 寛之

  金沢工業大学 電子デバイスシステム研究所

• Kitamura K

  Osaka Univ. Osaka Jpn

• Sato H

  Univ. Tokushima Tokushima Jpn

• 柿本 昭博

  金沢工業大学研究支援機構

• 石橋 亮

  YKK(株)

• 福田 一郎

  Department Of Radiology The Jikei University School Of Medicine

• SATO Hisano

  Wireless Research Laboratory, Matsushita Elec. Ind., Co.

• Fukuda Ichiro

  Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology

• 水野 孝宣

  金沢工業大学電気電子工学科

• 小出 英延

  (株) 日本AEパワーシステムズ

• 仲神 芳武

  工学院大学工学部機械工学科

• Fukuda I

  Tokyo Woman's Christian Univ.

• Fukuda Ichirou

  Department Of Radiology Jikei University School Of Medicine

• 西 敏行

  富山高等専門学校

• 碓氷 拓郎

  金沢工業大学

• 福田 一郎

  金沢工業大学O.EデバイスシステムR&Dセンター

• 小池 真弘

  金沢工業大学

• 藤田 普方

  金沢工業大学

• 大澤 直樹

  金沢工業大学工学部電気電子工学科

• 福田 一郎

  金沢工業大学

• 大澤 直樹

  (株)日立製作所電力・電機開発研究所

• 香林 利幸

  金沢工業大学先端電子技術応用研究所

• 大澤 直樹

  金沢工業大学

• 中田 勝志

  金沢工業大学

• 高本 清

  (株)かんでんエンジニアリング

• 細谷 直輝

  (株)東芝 四日市工場

• 高橋 尉治朗

  金沢工業大学電気電子工学科

• 津田 敏宏

  金沢工業大学

• 成田 重治

  金沢工業大学

• 金山 登

  コマツ

• 横井 昌弘

  金沢工業大学 電気系

• 笠置 和幸

  金沢工業大学

• 恩地 利成

  金沢工大

• 新保 實

  金沢工業大学 高度材料科学研究開発センター

• 新保 實

  金沢工大 工

• 前野 隆則

  金沢工大

• 前野 隆則

  金沢工業大学電子デバイスシステム研究所

• 笠井 勉

  金沢工大

• 笠井 勉

  金沢工業大学電子デバイスシステム研究所

• 北村 謙太郎

  金沢工業大学電子デバイスシステム研究所

• 岩本 淳

  金沢工業大学電子デバイスシステム研究所

• 東條 智

  金沢工業大学電子デバイスシステム研究所

• 小出 英延

  (株)日本AEパワーシステムズ

• 西 敏行

  富山高専

• Mouri Takashi

  Chemical Laboratory Tosoh Corporation

• 福田 一郎

  金沢工大

• OGAWA Norihiro

  Chemical Laboratory, Tosoh Corporation

• MIYATA Yoshihiro

  Electron Device System Laboratory, Kanazawa Industry of Technology

• IMAMOTO Hideyuki

  Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology

• 勝山 佳則

  金沢工業大学

• Miyata Yoshihiro

  Electron Device System Laboratory Kanazawa Industry Of Technology

• 波間 拓朗

  金沢工業大学

• 石橋 亮

  YKK株式会社

• 保 裕幸

  金沢工業大学

• Ogawa Norihiro

  Chemical Laboratory Tosoh Corporation

• 新保 實

  金沢工業大学 物質応用工学科

• 香林 利幸

  金沢工大

• Iwamoto Atsushi

  Electron Device System Laboratory Kanazawa Institute Of Technology

• KAKUMU Toshikazu

  Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology

• KITAMURA Kentaro

  Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology

• Kakumu Toshikazu

  Electron Device System Laboratory Kanazawa Institute Of Technology

• Imamoto Hideyuki

  Electron Device System Laboratory Kanazawa Institute Of Technology

• KITAMURA Kentarou

  Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology

• 安齊 秀伸

  藤倉化成（株）

• 藤田 普方

  金沢工業大学大学院

• 金丸 保典

  金沢工業大学電気電子工学科

• 山本 博法

  石川県警察本部科学捜査研究所

• 端 良太

  金沢工業大学

• 西川 精一

  (株)かんでんエンジニアリング

• 金田 尚士

  (株)かんでんエンジニアリング

• 戸田 康雅

  金沢工業大学

• 藤澤 智彦

  金沢工業大学

• 安齊 秀伸

  藤倉化成 (株)

• 新保 實

  金沢工業大学

• 香林 利幸

  金沢工業大学

もっと見る 閉じる

著作論文

• 架空絶縁電線表面における負極性沿面放電の進展過程
• 分散系シリコーンゲルの粘弾性特性に関する電界の効果
• 分散系ER流体の粒子凝集力に関する電気伝導の役割
• 分散系ER流体の電気的応答に関する温度依存性
• 極間に永久磁石を挿入した突極形同期発電機
• 電極間に挿入した固体誘電体バリアの種類による気中放電現象の相違
• MBロータを用いた二重巻線式リラクタンス発電機の性能評価
• MBロータを用いた二重巻線式リラクタンス発電機の回転磁束分布
• 永久磁石補助突極形同期機の三相突発短絡時における不可逆減磁の解析
• PM補助突極形同期発電機の特性計算
• フェライト磁石を用いたPM補助突極形同期発電機の磁界解析
• EHD液体ジェット発生用の実用的電極系と液体ポンピング特性
• マルチプルバリアロータを用いた自励同期リラクタンス発電機の性能解析
• 同軸円筒型電極系によるEHD液体ジェットの流動特性
• 自己調節形自励同期リラクタンス発電機の動作解析
• 環境に優しいMR流体の開発とMRクラッチの特性
• EHDポンプと円錐ノズルによる液体ジェットの特徴的な流動特性
• チキソトロピー性MR流体を用いたクラッチの特性(パワーマグネティックス)
• 巻線界磁と永久磁石界磁を軸方向に配置したハイブリッド励磁形同期機の特性算定法
• チキソトロピー性MR流体を用いたクラッチの特性
• 独立形PM誘導発電機の特性算定法
• PM誘導発電機の独立運転時における特性算定法
• PM誘導発電機の鉄損を考慮した特性算定法
• 軸方向分割回転子を有するハイブリッド励磁形同期機の特性算定法
• EHD液体ジェットの圧力ヘッドに及ぼす電極形状の効果
• 粒子分散系MRゲルのMR効果と粘弾性特性
• PM誘導機の非線形モデル
• 三相整流型限流器の新しい適用法とその限流動作
• PM誘導機のモデル化
• 軸方向分割回転子を有するハイブリッド励磁形同期機のモデル化
• 架空絶縁電線表面における負極性沿面放電の進展過程
• MBロータを用いた二重巻線式リラクタンス発電機の性能評価
• フルカラー薄膜ELディスプレイ用酸化物蛍光体
• フルカラー薄膜ELディスプレイ用酸化物蛍光体
• 高輝度緑色発光ZnGa_2O_4 : Mn TFEL素子
• セラミックス絶縁層を用いた高輝度緑色発光Zn_2SiO_4 : Mn薄膜EL素子
• 蛍光体セラミックスを用いた直流駆動EL素子の特性
• 絶縁層としてBaTiO_3セラミックを用いた発音形ZnS:Mn薄膜EL素子 : 発光型ディスプレイ話題別研究会 : 情報ディスプレイ(発光型ディスプレイ特集)
• EL素子作製プロセスへのECR水素プラズマを用いたRIEの応用 : 発光型ディスプレイ話題別研究会 : 情報ディスプレイ(発光型ディスプレイ特集)
• 薄膜形と分散形とを組み合わせた各種ハイブリッド形EL素子 : 発光型ディスプレイ話題別研究会 : 情報ディスプレイ(発光型ディスプレイ特集)
• 架空絶縁電線表面における正極性沿面放電の進展過程
• 微量PCB含有絶縁油の無害化処理技術の開発
• 各種インパルス電圧による架空絶縁電線表面の沿面放電特性
• 分散系ER流体の粒子凝集力に関する電気伝導の役割
• 分散系シリコーンゲルの粘弾性特性に関する電界の効果
• EHDポンピング現象に関する電極形状の効果
• 液体誘電体中のEHDポンピングによる液体ジェットの特性
• 液体誘電体中のEHDポンピングによる液体ジェットの特性
• Highly Transparent and Conductive Zinc-Stannate Thin Films Prepared by RF Magnetron Sputtering
• Transparent and Conductive ZnO Thin Films Prepared by Atmospheric-Pressure Chemical Vapor Deposition Using Zinc Acetylacetonate
• Large-Area Milky Transparent Conducting Al-Doped ZnO Films Prepared by Magnetron Sputtering
• Reactive Ion Etching Using Electron Cyclotron Resonance Hydrogen Plasma with n-Butyl Acetate Reactive Gas : Etching
• Reactive Ion Etching Using Electron Cyclotron Resonance Hydrogen Plasma with n-Butyl Acetate Reactive Gas
• Substrate Temperature Dependence of Transparent Conducting Al-Doped ZnO Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering
• インパルス電圧連続印加によるPMMA中の放電トリー現象
• 架空絶縁電線表面の沿面放電に及ぼす印加電圧波頭長の影響
• 多結晶性氷と単結晶性氷の Treeing 現象
• 油中沿面放電の進展と放電の形態
• Highly Conducting and Transparent SnO_2 Thin Films Prepared by RF Magnetron Sputtering on Low-Temperature Substrates : Surfaces, Interfaces and Films
• Highly Transparent and Conductive Zn_2In_2O_5 Thin Films Prepared by RF Magnetron Sputtering
• High-Luminance Green Zn_2SiO_4:Mn Thin-Film Electroluminescent Devices Using an Insulating BaTiO_3 Ceramic Sheet
• Flat Panel Light-Emitting Sounder Using Thin-Film EL Devices with a Ceramic Insulating Layer
• Reactive Ion Etching of Transparent Conducting Tin Oxide Films Using Electron Cyclotron Resonance Hydrogen Plasma : Nuclear Science, Plasmas and Electric Discharges
• Low Voltage Driven MOCVD-Grown ZnS:Mn Thin-Film Electroluminescent Devices Using Insulating BaTiO_3 Ceramic Sheets : Optical Properties of Condensed Matter
• High-Quality Zinc Sulfide Thin Films Grown by MOCVD Using Carbon Disulfide as A Sulfur Source : Semiconductors and Semiconductor Devices
• 架空絶縁電線表面の負極性沿面放電に現れる進展様相の推移
• PM表面にダンパを追加したPM補助突極形同期機の三相突発短絡時における減磁軽減効果
• EHDによる液体引出し現象の動的挙動
• PFAE油中の誘電体板隙間を進展する沿面放電の特性
• EHDによる液体引出し現象の動的挙動
• 架空絶縁電線表面の負極性沿面放電に現れる進展様相の推移
• PFAE油中の誘電体板隙間を進展する沿面放電の特性
• 菜種油中のバリア放電による溶解ガス成分の分析
• EHDポンプを用いた液体循環系による被加熱部の冷却効果
• Relationship between Creeping Discharge along Aerial Insulated Wire and Duration of Wave Front of Inductive Lightning Surge

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク